基片检验装置

实用新型专利无效专利

申请号：
CN01208700.9
IPC分类号：--
申请日期：
2001-03-26
申请人：
奥林巴斯光学工业株式会社

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法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	基片检验装置
申请号	CN01208700.9	申请日期	2001-03-26
法律状态	权利终止	申报国家	中国
公开/公告日		公开/公告号
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	暂无	IPC分类号	暂无查看分类表>
申请人	奥林巴斯光学工业株式会社	申请人地址	日本东京都变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	奥林巴斯光学工业株式会社	当前权利人	奥林巴斯光学工业株式会社
发明人	藤崎畅夫;永见理
代理机构	永新专利商标代理有限公司	代理人	黄剑锋

摘要

基片检验装置,备有:矩形的基片保持机构、将该机构升起至预定角度的驱动机构、和沿基片侧缘至少直交的2个方向设于该保持机构,检测该基片的缺陷部的位置坐标的检测机构;该检测机构备有:沿基片侧缘朝二个方向设置的二组导轨;可沿一组导轨移动,朝与该一方向直交的方向射出光的光源;以横跨基片的状态,可沿一组导轨移动,从光源射出的光被投射的投射部件;依各组导轨的光源和投射部件的位置,检测该缺陷部的位置坐标的检测部。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有引用任何外部专利数据！

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