四层膜系镀膜玻璃

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本发明涉及平板玻璃制品，特别是涉及表面经镀膜处理 的建筑用平板玻璃制品。    \n现有技术中，建筑用平板玻璃镀膜制品，就其产生热反 射和彩色性能的机理来看，多是采用二层膜系或三层膜系结 构，见图1和图2，膜系构成为：基片1、金属膜2、金属化合 物膜3；或基片4、金属化合物膜5、金属膜6、金属化合物膜 7。其中，金属包括：镍铬钢、银、铝、铜、钛、铬等，金 属化合物包括：氧化钛、氧化锡、氧化铬、不锈钢氧化物等 。上述膜系结构的特点主要是利用金属的反射率高和金属化 合物膜的干涉效应，但从热反射能力和色饱和度方面来看比 较差。\n二层膜系的热反射彩色阳光控制膜镀膜玻璃，一般是在 着色玻璃基片上镀膜，利用着色玻离对自然光的吸收特性以 获得色彩。膜性能为反射镜面膜。由于着色玻璃对光谱有大 量吸收，所以对红外线的反射能力差，光学性能不理想，且 制品生产的灵活性差。\n三层膜系的热反射彩色阳光控制膜镀膜玻璃，一般是在 透明玻璃基片上镀膜，利用薄膜干涉原理获得色彩。但由于 金属反射膜前有一层为产生反射色彩而设置的干涉膜，降低 了玻璃面红外线的反射能力；而且，由于在两个反射界面反 射的干涉光束的光强(振幅)有相当大的差别，造成玻璃面反 射色饱和度低；再者，对于不同厚度的基片，由于对自然光 的吸收不同，玻璃面的反射色还存在着可分辨的色差。\n日本「公开特许公报」昭63-112441(JP63,112,441)公 开了一种“透明热线反射板”的产品，其膜层结构为：|玻 璃|氧化锡或氧化钛|金属钛|氧化锡或氧化钛|；日本「 公开特许公报」昭01-188446(JP01,188,445)公开了一种“ 热反射玻璃”的产品，其膜层结构为：|玻璃|金属氧化物 |金属|金属氧化物|；联邦德国专利DE3413587公开了一 种“用磁控反应溅射进行热反射镀膜玻璃的氧化锡干涉膜的 沉积”的方法，其膜层结构为：|玻璃|氧化锡|金属银| 氧化锡|；联邦德国专利DE3807600开了一种“低反射和 热隔绝的透明镀膜”的产品结构，其膜层结构为：|玻璃| 金属化合物|金属|金属化合物|；欧洲专利EP185314公开 了一种“具有干涉色的建筑玻璃镀膜”的产品，其膜层结构 为：|玻璃|不锈钢氧化物|金属银|不锈钢|；联邦德国 专利DE 3941045公开了其膜层结构为|玻璃|锡铟氧化物或 氮化铝|银或铜|锌|锡铟氧化物或氮化铝|的热反射玻璃； 美国专利US 4900630公开了其膜层结构为：|玻璃|氧化钛 或氧化铬|氮化钛|钛或铬|氧化钛|的镀膜玻璃；日本专利 JP 63-242948公开了其膜层结构为；|玻璃|铬或不锈钢|氮 化钛|氧化钛|的太阳反射玻璃。\n上述现有技术产品的共同缺点是：玻璃面反射色的饱和度 低，透射率的调整整会导致反射色的饱和度的大幅变化。\n本发明的目的在于：为改善上述现有技术中的不足之处， 而提供一种不仅具有优良的热反射性能，而且具有较高的玻 璃面反射色饱和度，并且透射率在较大范围调整而不影响其 反射色饱和度的四层膜系镀膜玻璃，该镀膜玻璃主要用作建 筑物的幕墙玻璃和窗玻璃。\n本发明的目的可以通过以下措施来达到：利用金属或金 属氮化物的高反射性能和高吸收性能、金属氧化物的高折射 性能和不同的吸收性能，以及运用金属、金属氮化物膜与金 属氧化物膜综合作用所产生的干涉效应，制作具有高的红外 反射率和高的色饱和度的四层膜系阳光控制膜镀膜玻璃。它 包括基片，以及金属、金属化合物的多层镀膜；其紧挨玻璃 基片的一个面的第一层镀膜是金属、金属氮化物膜包括：铝、 铜、铬、钛、镍铬合金、氮化钛、氮化铬、镍铬合金氮化物、 镍铬钢、镍铬钢氮化物；在该第一层镀膜上有第二层镀膜金属 化合物镀膜包括：氧化锌、氧化锡、氧化钛、锡合金氧化物； 在所述第二层镀膜上，又有第三层金属、金属氮化物膜包括铝、 铜、铬、钛、镍铬合金、氮化钛、氮化铬、镍铬合金氮化物、 镍铬钢、镍铬钢氮化物；在该第三层镀膜上，还有第四层氧化 物、氮化物镀膜包括：氧化钛、氧化锡、氧化铬、氮化钛、氮 化铬、氮化铬、氮氧化钛、锡合金氧化物。\n所述各层镀膜中的金属元素可以相同、部分相同、也可不 相同。    \n附图的图面说明如下：\n图1为现有技术二层膜系镀膜玻璃横断面；\n图2为现有技术三层膜系镀膜玻璃横断面；\n图3为本发明的四层膜系镀膜玻璃横断面；\n图4是基片垂直置于真空室中，相对于各溅射阴极靶运 动的示意图；\n图5是基片水平置于真空室中，相对于各溅射阴极靶运 动的示意图。\n以下结合本发明各最佳实施例作进一步详细叙述：本发 明的膜系结构，见图3，其第一层11是在基片15上镀的 金属或金属氮化物膜，第二层12是在第一层镀膜11上镀覆 的金属化合物膜，第三层13是在第二层镀膜12上镀覆的， 为金属或金属氮化物膜，第四层镀膜14是在第三层镀膜13 上镀覆的氧化物或氮化物膜。\n制造本发明镀膜玻璃所用的设备为磁控直流阴极溅射真 空镀膜系统。直流溅射或射频溅射均可，也可采用离子束沉 积等其它镀膜工艺方法。溅射阴极内部磁场的产生既可以用 永磁性材科，也可以用电磁铁。本发明所适用的真空室系统 ，既可以是多室结构也可以是单室结构。在真空室内，也可 以设置阳极以辅助镀膜溅射。\n溅射阴极为平面炬形，有水冷却通道。阴极正表面装有 所要溅射的金属或合金靶材，除正表面外，四周装有屏蔽罩 ，屏蔽罩接地，防止其它区域发生溅射腐蚀。真空室内装有 反应气体输入管道，真空室接有高真空抽气系统。直流溅射 电源系统的负极接溅射阴极，正极接真空室外壳(接地)，采 用恒电流控制。\n如图4和图5所示，将基片15置于真空室中，与溅射阴极 16、17、18正表面平行，在镀膜时，基片15在传动系统的驱 动下，可以不同的速度相对于溅射阴极靶16、17、18的正表 面平行地行走，完成溅射镀膜过程。\n实施例1(见表1，编号：CR40)，膜系结构为：|透明 玻璃|金属铬|锡合金氧化物|金属铬|氧化铬|。阴极靶 材尺寸为380毫米×128毫米，阴极靶材为金属铬和锡合金。\n真空泵系统将初始真空压强抽至低于1×10-4毫巴。\n通入氩气，控制氩气的流量，使真空压强维持在约2× 10-3毫巴；启动直流电源系统，给装有金属铬靶的阴极通电 ，电流为0.6安培，电压为331伏特；基片在传动系统的驱动 下，以2米/分的速度与溅射阴极靶材表面平行地行走；进行 金属铬膜的溅射镀膜，至550纳米单色光透射率约为46.9％； 关闭阴极铬靶的电源和气体。\n通入氧气和氩气，控制氧气和氩气的流量比例约为2∶3 ，使真空压强维持在2.5×10-3毫巴；给用于反应溅射锡合 金氧化物的装有锡合金靶的阴极通电，电流为0.5安培，电 压为287伏特；基片在传动系统的驱动下，以2米/分的速度 与溅射阴极靶材表面平行地行走；进行锡合金的反应溅射镀 膜，至550纳米单色光透射率约为52.1％；关闭阴极锡合金靶\n表1部分实施例的工艺数据和样品的性能指标  编号  基片  靶材成分   气体种类及    流量比例  压强  微巴  电流  安培  电压  伏特   透射率   门塞尔色码   X，Y，Z，   表色系统     x，y，   表色系统  L*，a*，b*，     表色系统  反射  色  AL2  透明  玻璃  铝  锌  铝  钛  氩  氧/氩＝1/2  氩  氧/氩＝1/2   2.5   3.0   2.5   3.0   0.7   1.0   1.5   6.0  322  298  369  414    44.3    60.8    16.8    26.4    2.5PB5/12   X＝15.34   Y＝16.94   Z＝29.45  x＝0.2485  y＝0.2744   L*＝48.184   a*＝-5.729   b*＝-48.416  兰紫  AL4  透明  玻璃  铝  锌  铝  铝  氩  氧/氩＝1/2  氩  氧/氩＝1/2   2.5   2.5   2.5   2.5   0.7   1.0   1.5   6.0  311  298  381  258    42.9    52.4    19.7    25.8    7.5B5/12   X＝11.36   Y＝15.30   Z＝25.40  x＝0.2182  y＝0.2939   L*＝46.042   a*＝-22.309   b*＝-42.007  兰色  T17  透明  玻璃  钛  锌  钛  钛  氩  氧/氩＝1/2  氩  氧/氩＝1/2   2.0   3.0   2.0   3.0   1.0   1.0   4.0   6.0  274  310  333  409    40.0    51.2    15.8    19.3    2.5PB5/12   X＝18.47   Y＝20.12   Z＝35.16  x＝0.2504  y＝0.2728   L*＝51.973   a*＝-4.759   b*＝-51.869  兰紫  AL39  透明  玻璃  铝  锡合金  铝  铬  氩  氧/氩＝2/3  氩  氧/氩＝2/3   2.0   2.0   2.0   2.5   0.7   0.5   1.8   6.0  324  288  373  465    43.9    48.3    10.7    16.0    5B6/12   X＝19.76   Y＝28.50   Z＝43.48  x＝0.2154  y＝0.3107   L*＝60.338   a*＝-34.256   b*＝-41.112  兰色  S534  透明  玻璃  镍铬钢  钛  镍铬钢  钛  氩  氧/氩＝1/1  氩  氧/氩＝1/1   2.0   3.0   2.0   3.0   0.7   2.0   1.5   4.0  360  361  417  376    43.7    54.7    14.8    16.8    2.5PB6/12   X＝28.94   Y＝30.12   Z＝49.04  x＝0.2677  y＝0.2786   L*＝61.758   a*＝-0.394   b*＝-50.141  兰紫\n表1(续)部分实施例的工艺数据和样品的性能指标  编号  基片  靶材成分    气体种类及     流量比例  压强  微巴  电流  安培  电压  伏特   透射率     ％   门塞尔色码   X，Y，Z，   表色系统     x，y，   表色系统   L*，a*，b*，      表色系统  反射  色  CR36  透明  玻璃  铬  锌  铬  铬  氩  氧/氩＝1/2  氩  氧/氩＝1/2   2.0   2.5   2.0   2.2   0.6   1.0   1.8   6.0  334  295  402  455    46.2    54.1    14.5    12.4    2.5PB5/16   X＝13.59   Y＝14.79   Z＝35.48  x＝0.2128  y＝0.2316   L*＝45.342   a*＝-4.179   b*＝-81.500  兰紫  SS38  透明  玻璃  镍铬钢  锌  镍铬钢  铬  氩  氧/氩＝1/2  氩  氧/氩＝2/3   2.0   2.5   2.0   2.5   0.6   1.0   1.8   6.0  348  330  427  472    47.9    57.2    13.4    13.5    2.5PB5/14   X＝13.91   Y＝15.45   Z＝32.39  x＝0.2252  y＝0.2503   L*＝46.250   a*＝-6.107   b*＝-67.224  兰紫  CR40  透明  玻璃  铬  锡合金  铬  铬  氩  氧/氩＝2/3  氩  氧/氩＝2/3   2.0   2.5   2.0   2.5   0.6   0.5   1.8   0.9  331  287  391  472    46.9    52.1    6.6    7.9    10B5/12   X＝18.35   Y＝21.99   Z＝38.60  x＝0.2325  y＝0.2786   L*＝54.018   a*＝-14.205   b*＝-53.937  兰色  CR44  透明  玻璃  铬  锡合金  铬  锡合金  氩  氧/氩＝2/3  氩  氧/氩＝2/3   2.0   2.5   2.0   2.5   0.6   0.9   1.8   0.9  333  307  405  315    44.0    46.5    6.0    11.5    2.5PB4/16   X＝11.27   Y＝12.47   Z＝29.46  x＝0.2119  y＝0.2344   L*＝41.947   a*＝-5.316   b*＝-75.322  兰紫   CU1  透明  玻璃  铜  锡  钛  锡  氩  氧/氩＝1/1  氩  氧/氩＝1/1   2.5   3.0   2.5   3.0   0.4   1.2   2.0   1.2  305  317  305  320    48.1    50.5    18.0    28.5    5B5/8   X＝15.89   Y＝20.81   Z＝29.24  x＝0.2409  y＝0.3156   L*＝52.745   a*＝-22.196   b*＝-28.002  兰色\n表1(续)部分实施例的工艺数据和样品的性能指标  编号  基片  靶材成分   气体种类及    流量比例  压强  微巴  电流  安培  电压  伏特   透射率     ％  门塞尔色码    X，Y，Z，   表色系统     x，y，   表色系统  L*，a*，b*，     表色系统  反射  色  FE35  透明  玻璃 镍铬钢 镍铬钢 镍铬钢 钛 氩 氧/氩＝1/1 氩 氧/氩＝1/1   2.0   3.0   2.0   3.0   0.6   2.0   1.5   4.0  365  388  377  378     54.9     49.8     13.3     18.1   5Y5/9  X＝18.91  Y＝19.01  Z＝10.12  x＝0.3936  y＝0.3957  L*＝50.699  a*＝3.002  b*＝59.804  金黄  SSN2  透明  玻璃 镍铬钢 锡 镍铬钢 钛 氮/氩＝3/2 氧/氩＝3/2 氮/氩＝3/2 氮/氩＝3/2   3.5   3.5   3.5   3.2   1.7   1.2   4.0   4.0  365  290  468  344     51.5     58.5     19.0     14.0   7.5B6/6  X＝25.25  Y＝29.71  Z＝38.61  x＝0.2698  y＝0.3175  L*＝61.403  a*＝-13.754  b*＝-22.154  兰色  SSN3  透明  玻璃 镍铬钢 锡 镍铬钢 锡 氮/氩＝3/2 氧/氩＝3/2 氮/氩＝3/2 氧/氩＝3/2   3.5   3.0   3.0   3.0   1.7   1.2   4.0   1.2  354  303  464  327     53.5     62.0     19.5     24.0   5B6/6  X＝24.43  Y＝29.17  Z＝37.58  X＝0.2680  Y＝0.3199  L*＝60.928  a*＝-15.188  b*＝-21.017  兰色  CU5  透明  玻璃 铜 锡 镍铬钢 锡 氩 氧/氩＝1/1 氮/氩＝3/2 氧/氩＝3/2   3.0   3.1   3.1   3.2   0.7   1.2   4.0   1.2  344  308  462  289     50.5     54.0     19.0     26.0   5B5/12  X＝15.45  Y＝21.60  Z＝34.12  x＝0.2171  y＝0.3035  L*＝53.600  a*＝-28.426  b*＝-41.420  兰色  CU6  透明  玻璃 铜 锡 镍铬钢 钛 氩 氧/氩＝3/2 氮/氩＝3/2 氮/氩＝3/2   2.8   3.4   3.0   3.3   0.7   1.2   4.0   4.0  344  306  463  345     49.0     54.5     19.0     14.0   5B5/12  X＝15.48  Y＝21.49  Z＝33.98  x＝0.2182  y＝0.3029  L*＝53.482  a*＝-27.741  b*＝-41.462  兰色 的电源和气体。\n通入氩气，控制氩气的流量，使真空压强维持在约2× 10-3毫巴；给装有金属铬靶的阴极通电，电流为1.8安培 ，电压为391伏特；基片在传动系统的驱动下，以2米/分的 速度与溅射阴极靶材表面平行地行走；进行金属铬的溅射镀 膜，至550纳米单色光透射率约为6.6％；关闭阴极铬靶的电 源和气体。\n通入氧气和氩气，控制氧气和氩气的流量比例约为2∶3 ，使真空压强维持在2.5×10-3毫巴；给用于反应溅射氧化 铬的装有金属铬靶的阴极通电，电流为0.9安培，电压为472 伏特；基片在传动系统的驱动下，以2米/分的速度与溅射阴 极靶材表面平行地行走；进行金属铬的反应溅射镀膜，至550 纳米单色光透射率约为7.9％；关闭阴极铬靶的电源和气体。\n本例样品的可见光谱透射率为8.2％，可见光谱反射率为 19.3％，太阳光谱透射率为9.7％，太阳光谱反射率为14.9％， 遮阳系数为0.328；玻璃面的反射色为兰色，门塞尔色码为10 B5/12，其他性能指标见表1。\n实施例2(见表1，编号：CU1).膜系结构为：|透明玻 璃1金属铜|氧化锡|金属钛|氧化锡|。阴极靶材尺寸为 380毫米×128毫米，阴极靶材为金属铜、金属钛和金属锡。\n真空泵系统将初始真空压强抽至低于1×10-4毫巴。\n通入氩气，控制氩气的流量，使真空压强维持在约2.5 ×10-3毫巴；启动直流电源系统，给装有金属铜靶的阴极通 电，电流为0.4安培，电压为305伏特；基片在传动系统的驱 动下，以2米/分的速度与溅射阴极靶材表面平行地行走；进 行金属铜膜的溅射镀膜，至550纳米单色光透射率约为48.1％ ；关闭阴极铜靶的电源和气体。\n通入氧气和氩气，控制氧气和氩气的流量比例约为1∶1 ，使真空压强维持在3.0×10-3毫巴；给用于反应溅射氧化 锡的装有金属锡靶的阴极通电，电流为1.2安培，电压为317 伏特；基片在传动系统的驱动下，以2米/分的速度与溅射阴 极靶材表面平行地行走；进行金属锡的反应溅射镀膜，至550 纳米单色光透射率约为50.5％；关闭阴极锡靶的电源和气体。\n通入氩气，控制氩气的流量，使真空压强维持在约2.5 ×10-3毫巴；给装有金属钛靶的阴极通电，电流为2.0安培， 电压为305伏特；基片在传动系统的驱动下，以2米/分的速 度与溅射阴极靶材表面平行地行走；进行金属钛的溅射镀膜 ，至550纳米单色光透射率约为18.0％；关闭阴极钛靶的电源 和气体。\n通入氧气和氩气，控制氧气和氩气的流量比例约为1∶1 ，使真空压强维持在3.0×10-3毫巴；给用于反应溅射氧化 锡的装有金属锡靶的阴极通电，电流为1.2安培，电压为320 伏特；基片在传动系统的驱动下，以2米/分的速度与溅射阴 极靶材表面平行地行走；进行金属锡的反应溅射镀膜，至550 纳米单色光透射率约为28.5％；关闭阴极锡靶的电源和气体。\n本例样品的可见光谱透射率为29.4％，可见光谱反射率 为24.8％，太阳光谱透射率为19.8％，太阳光谱反射率为24.7 ％，遮阳系数为0.384；玻璃面的反射色为兰色，门塞尔色码 为5B5/8，其他性能指标见表1。\n实施例3(见表1，编号：SSN2).膜系结构为：|透明 玻璃|镍铬钢氮化物|氧化锡|镍铬钢氮化物|氮化钛|。 阴极靶材尺寸为380毫米×128毫米，阴极靶材为镍铬钢、金 属锡和金属钛。\n真空泵系统将初始真空压强抽至低于1×10-4毫巴。\n通入氮气和氩气，控制氮气和氩气的流量比例约为3∶2 ，使真空压强维持在约3.5×10-3毫巴；启动直流电源系统， 给用于反应溅射镍铬钢氮化物的装有镍铬钢靶的阴极通电， 电流为1.7安培，电压为365伏特；基片在传动系统的驱动下 ，以2米/分的速度与溅射阴极靶材表面平行地行走；进行镍 铬钢的反应溅射镀膜，至550纳米单色光透射率约为51.5％； 关闭阴极镍铬钢靶的电源和气体。\n通入氧气和氩气，控制氧气和氩气的流量比例约为3∶2 ，使真空压强维持在3.5×10-3毫巴；给用于反应溅射氧化 锡的装有金属锡靶的阴极通电，电流为1.2安培，电压为290 伏特；基片在传动系统的驱动下，以2米/分的速度与溅射阴 极靶材表面平行地行走；进行金属锡的反应溅射镀膜，至550 纳米单色光透射率约为58.5％；关闭阴极锡靶的电源和气体。\n通入氮气和氩气，控制氮气和氩气的流量比例约为3∶2 ，使真空压强维持在约3.5×10-3毫巴；给用于反应溅射镍 铬钢氮化物的装有镍铬钢靶的阴极通电，电流为4.0安培， 电压为468伏特；基片在传动系统的驱动下，以2米/分的速 度与溅射阴极靶材表面平行地行走；进行镍铬钢的反应溅射 镀膜，至550纳米单色光透射率约为19.0％；关闭阴极镍铬钢 靶的电源和气体。\n通入氮气和氩气，控制氮气和氩气的流量比例约为3∶2 ，使真空压强维持在3.2×10-3毫巴；给用于反应溅射氮化 钛的装有金属钛靶的阴极通电，电流为4.0安培，电压为344 伏特；基片在传动系统的驱动下，以2米/分的速度与溅射阴 极靶材表面平行地行走；进行金属钛的反应溅射镀膜，至550 纳米单色光透射率约为14.0％；关闭阴极钛靶的电源和气体。\n本例样品的可见光谱透射率为15.1％，可见光谱反射率 为29.5％，太阳光谱透射率为12.2％，太阳光谱反射率为18.3 ％，遮阳系数为0.302；玻璃面的反射色为兰色，门塞尔色码 为7.5B6/6，其他性能指标见表1。\n实施例4(见表1，编号：SSN3).膜系结构为：|透明 玻璃|镍铬钢氮化物|氧化锡|镍铬钢氮化物|氧化锡|。 阴极靶材尺寸为380毫米×128毫米，阴极靶材为镍铬钢和金 属锡。\n真空泵系统将初始真空压强抽至低于1×10-4毫巴。\n通入氮气和氩气，控制氮气和氩气的流量比例约为3∶2 ，使真空压强维持在约3.5×10-3毫巴；启动直流电源系统， 给用于反应溅射镍铬钢氮化物的装有镍铬钢靶的阴极通电， 电流为1.7安培，电压为354伏特；基片在传动系统的驱动下 ，以2米/分的速度与溅射阴极靶材表面平行地行走；进行镍 铬钢的反应溅射镀膜，至550纳米单色光透射率约为53.5％； 关闭阴极镍铬钢靶的电源和气体。\n通入氧气和氩气，控制氧气和氩气的流量比例约为3∶2 ，使真空压强维持在3.0×10-3毫巴；给用于反应溅射氧化 锡的装有金属锡靶的阴极通电，电流为1，2安培，电压为202 伏特；基片在传动系统的驱动下，以2米/分的速度与溅射阴 极靶材表面平行地行走；进行金属锡的反应溅射镀膜，至550 纳米单色光透射率约为62.0％；关闭阴极锡靶的电源和气体。\n通入氮气和氩气，控制氮气和氩气的流量比例约为3∶2 ，使真空压强维持在约3.0×10-3毫巴；给用于反应溅射镍 铬钢氮化物的装有镍铬钢靶的阴极通电，电流为4.0安培， 电压为464伏特；基片在传动系统的驱动下，以2米/分的速 度与溅射阴极靶材表面平行地行走；进行镍铬钢的反应溅射 镀膜，至550纳米单色光透射率约为19.5％；关闭阴极镍铬钢 靶的电源和气体。\n通入氧气和氩气，控制氧气和氩气的流量比例约为3∶2 ，使真空压强维持在3.0×10-3毫巴；给用于反应溅射氧化 锡的装有金属锡靶的阴极通电，电流为1.2安培，电压为327 伏特；基片在传动系统的驱动下，以2米/分的速度与溅射阴 极靶材表面平行地行走；进行金属锡的反应溅射镀膜，至550 纳米单色光透射率约为24.0％；关闭阴极锡靶的电源和气体。\n本例样品的可见光谱透射率为24.6％，可见光谱反射率 为29.0％，太阳光谱透射率为22.2％，太阳光谱反射率为19.4 ％，遮阳系数为0.419；玻璃面的反射色为兰色，门塞尔色码 为5B6/6，其他性能指标见表1。\n还有更多的实施例，其中有关的工艺数据和样品的性能 指标部分地列入了表1，此处不再赘述。\n同现有技术相比，本发明的膜系结构及其四层膜系镀膜 玻璃具有如下突出优点：\n1.提高了反射色的色饱和度\n本发明在膜系结构设计方面，利用金属或金属氮化物膜 的反射特性和吸收特性，同时利用金属化合物膜折射和吸收 特性在光学干涉效应方面产生的特殊效果，减小了干涉光束 在两个反射界面反射干涉时的光强(振幅)之差，从而提高了 镀膜玻璃反射色的色饱和度。\n2.解决了不同厚度基片镀膜玻离的反射色存在色差的问题\n对于厚度不同的基片，既使是完全相同的镀膜条件，按 现有技术设计制造的产品，均出现程度不同的反射色的色差 。这主要是由于厚度不同的基片对可见光谱的吸收量不同而 导致的。本发明采用金属或金属氮化物膜作为最接近基片的 第一层膜，由于金属或金属氮化物膜的吸收系数和反射系数 很高，因而对透射光的影响远大于基片对透射光的影响，因 而，基片厚度的变化不足以影响总的光谱透射量，大大减弱 了因基片厚度不同造成镀膜玻璃反射色存在的色差。\n3.解决了镀膜玻璃透射率大范围调整的问题\n对现有技术的三层干涉膜系镀膜玻璃而言，可见光谱和 太阳光谱透射率的主要控制方法是利用金属膜的厚度变化， 且只能在极为窄小的范围内进行，否则，将出现可分辨的反 射色差。采用本发明四层膜系结构的制品，当第一层金属或 金属氮化物膜的厚度小于第二层金属或金属氮化物反射膜的 厚度时，选择第四层膜的材料和厚度，可使镀膜玻璃的可见 光谱和太阳光谱透射率在更大范围内进行调整，而不影响可 见光谱反射率和反射色饱和度。\n4.提高了红外反射能力\n采用本发明膜系结构的制品，其第一层金属或金属氮化 物膜的红外反射能力一般高于三层膜系第一层金属氧化物膜 的红外反射能力，因而更有利于提高红外反射能力。\n综合上述，在本发明的膜系结构中，第一层金属或金属 氮化物膜是提高红外反射能力的关键膜层之一。第一层膜、 第二层膜和第三层膜的结合，相对于前述现有技术的三层干 涉膜系而言，是提高反射色饱和度的关键结构特性，对于产 生高的红外反射率和高的色饱和度，是不可分割、相互依存 的膜结构特点；既可以独立构成膜系，也可以与第四层膜共 同构成膜系。