一种单异氰酸酯的制备方法及装置

发明专利有效专利

申请号：
CN201711228510.4
IPC分类号：C07C263/10;C07C263/20;C07C265/04
申请日期：
2017-11-29
申请人：
万华化学集团股份有限公司

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著录项信息

专利名称	一种单异氰酸酯的制备方法及装置
申请号	CN201711228510.4	申请日期	2017-11-29
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日	2018-04-20	公开/公告号	CN107935889A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	C07C263/10 ? IPC结构图谱： C 化学；冶金 C0 化学 C07 有机化学〔2〕 C07C 无环或碳环化合物（高分子化合物入C08；有机化合物的电解或电泳生产入C25B 3/00，C25B 7/00） C07C263/00 异氰酸衍生物的制备〔5〕 C07C263/10 由胺或羧基卤化物，例如与光气反应〔5〕	IPC分类号	C;0;7;C;2;6;3;/;1;0;;;C;0;7;C;2;6;3;/;2;0;;;C;0;7;C;2;6;5;/;0;4查看分类表>
申请人	万华化学集团股份有限公司	申请人地址	山东省烟台市经济技术开发区天山路17号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	万华化学集团股份有限公司	当前权利人	万华化学集团股份有限公司
发明人	俞勇;李同和;李建峰;尚永华;刘德刚;黎源;李文滨;黄真真;乔小飞;赵一鸣
代理机构	北京卓恒知识产权代理事务所（特殊普通合伙）	代理人	唐曙晖

摘要

本发明涉及一种单异氰酸酯的制备方法及装置，该方法使用过量的光气与对应的胺进行光气化反应，获得的反应液经过氯化氢气提脱光气后，实现光气与异氰酸酯的完全分离，达到过量光气能够循环使用的目的。在对脱完光气后的反应液进行裂解获得的裂解气体用惰性溶剂进行捕汲，获得对应异氰酸酯的溶液，后续分离可获得合格的异氰酸酯。使用该方法制备单异氰酸酯的过程具有高收率和低固废量的特点。

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