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成像光学系统和具有这种成像光学系统的用于微光刻的投射曝光设备

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201180020318.0
  • IPC分类号:G02B17/06;G03F7/20
  • 申请日期:
    2011-04-02
  • 申请人:
    卡尔蔡司SMT有限责任公司
著录项信息
专利名称成像光学系统和具有这种成像光学系统的用于微光刻的投射曝光设备
申请号CN201180020318.0申请日期2011-04-02
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2013-01-09公开/公告号CN102870030A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G02B17/06IPC分类号G;0;2;B;1;7;/;0;6;;;G;0;3;F;7;/;2;0查看分类表>
申请人卡尔蔡司SMT有限责任公司申请人地址
德国上科亨 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人卡尔蔡司SMT有限责任公司当前权利人卡尔蔡司SMT有限责任公司
发明人H-J.曼;D.谢弗
代理机构北京市柳沈律师事务所代理人邱军
摘要
一种成像光学系统(1),其具有多个反射镜(M1-M6),该多个反射镜(M1-M6)将物平面(5)中的物场(3)成像至像平面(9)中的像场(7),该成像光学系统包括第一部分物镜(11)和第二部分物镜(13),第一部分物镜(11)将物场成像至中间像(15)上,第二部分物镜(13)将中间像成像至像场上,并包括物场和像场之间的成像光线(17)的光路中的倒数第二个反射镜(M5)、以及该光路中的最后一个反射镜(M6)。这里,倒数第二个反射镜(M5)将中间像成像至另一中间像(19)上,且最后一个反射镜将该另一中间像成像至像场上。

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