成像光学系统和具有这种成像光学系统的用于微光刻的投射曝光设备

发明专利有效专利

申请号：
CN201180020318.0
IPC分类号：G02B17/06;G03F7/20
申请日期：
2011-04-02
申请人：
卡尔蔡司SMT有限责任公司

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著录项信息

专利名称	成像光学系统和具有这种成像光学系统的用于微光刻的投射曝光设备
申请号	CN201180020318.0	申请日期	2011-04-02
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日	2013-01-09	公开/公告号	CN102870030A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G02B17/06 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G02 光学 G02B 光学元件、系统或仪器（G02F优先；专用于照明装置或系统的光学元件入F21V 1/00至F21V 13/00；测量仪器见G01类的有关小类，例如，光学测距仪入G01C；光学元件、系统或仪器的测试入G01M 11/00；眼镜入G02C；摄影、放映或观看用的装置或设备入G03B；声透镜入G10K 11/30；电子和离子“光学”入H01J；X射线“光学”入H01J，H05G 1/00；结构上与放电管相组合的光学元件入H01J 5/16，H01J 29/89，H01J 37/22；微波“光学”入H01Q；光学元件与电视接收机的组合装置入H04N 5/72；彩色电视系统中的光学系统或装置入H04N 9/00；专门适用于透明或反射区的加热装置入H05B 3/84）〔1，7〕 G02B17/00 有或无折射元件的具有反射面的系统（显微镜入G02B 21/00；望远镜、潜望镜入G02B 23/00；其他位置不包括的光束整形入G02B 27/09光束分解或合成入G02B 27/10；光学投影入G02B 27/18）〔6〕 G02B17/02 反射光系统，例如，影像竖立和倒向系统 G02B17/06 只用反射镜的	IPC分类号	G;0;2;B;1;7;/;0;6;;;G;0;3;F;7;/;2;0查看分类表>
申请人	卡尔蔡司SMT有限责任公司	申请人地址	德国上科亨变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	卡尔蔡司SMT有限责任公司	当前权利人	卡尔蔡司SMT有限责任公司
发明人	H-J.曼;D.谢弗
代理机构	北京市柳沈律师事务所	代理人	邱军

摘要

一种成像光学系统（1），其具有多个反射镜（M1-M6），该多个反射镜（M1-M6）将物平面（5）中的物场（3）成像至像平面（9）中的像场（7），该成像光学系统包括第一部分物镜（11）和第二部分物镜（13），第一部分物镜（11）将物场成像至中间像（15）上，第二部分物镜（13）将中间像成像至像场上，并包括物场和像场之间的成像光线（17）的光路中的倒数第二个反射镜（M5）、以及该光路中的最后一个反射镜（M6）。这里，倒数第二个反射镜（M5）将中间像成像至另一中间像（19）上，且最后一个反射镜将该另一中间像成像至像场上。

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该专利没有引用任何外部专利数据！

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