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制备化学机械抛光层的方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201210290726.4
  • IPC分类号:B24D18/00
  • 申请日期:
    2012-08-15
  • 申请人:
    罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司
著录项信息
专利名称制备化学机械抛光层的方法
申请号CN201210290726.4申请日期2012-08-15
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2013-03-06公开/公告号CN102950550A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号B24D18/00IPC分类号B;2;4;D;1;8;/;0;0查看分类表>
申请人罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司申请人地址
美国特拉华州 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司当前权利人罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司
发明人K·麦克休;J·T·默南;G·H·麦克莱恩;D·A·赫特;R·A·布雷迪;C·A·扬;J·B·米勒
代理机构上海专利商标事务所有限公司代理人项丹
摘要
本发明涉及制备化学机械抛光层的方法,提供了用于化学机械抛光垫的抛光层的制备方法,其中最小化了抛光层中密度缺陷的形成。

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