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由吡喃-3,5-二酮合成的可降解型光刻胶树脂单体及其合成方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN202010557266.1
  • IPC分类号:C07D309/10;G03F7/027;G03F7/004
  • 申请日期:
    2020-06-18
  • 申请人:
    徐州博康信息化学品有限公司
著录项信息
专利名称由吡喃-3,5-二酮合成的可降解型光刻胶树脂单体及其合成方法
申请号CN202010557266.1申请日期2020-06-18
法律状态实质审查申报国家中国
公开/公告日2020-10-16公开/公告号CN111777583A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号C07D309/10IPC分类号C;0;7;D;3;0;9;/;1;0;;;G;0;3;F;7;/;0;2;7;;;G;0;3;F;7;/;0;0;4查看分类表>
申请人徐州博康信息化学品有限公司申请人地址
江苏省徐州市邳州市经济开发区化工聚集区 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人徐州博康信息化学品有限公司当前权利人徐州博康信息化学品有限公司
发明人傅志伟;贺宝元;邵严亮;毛国平;余文清;薛富奎;刘司飞
代理机构暂无代理人暂无
摘要
本发明公开了由吡喃‑3,5‑二酮合成的可降解型光刻胶树脂单体及其合成方法,涉及光刻胶树脂单体领域,其结构式如下所示:其中R1为氢或者甲基,R2为饱和烷烃或者环烷烃。其合成方法为:2H‑吡喃‑3,5(4H,6H)‑二酮(Ⅰ)与烷基格氏试剂或者环烷基格氏试剂发生格氏反应得到中间体(Ⅱ);中间体(Ⅱ)与丙烯酰氯或者甲基丙烯酰氯发生酯化反应得到树脂单体(Ⅲ)。本发明提供的树脂单体具有更好的耐刻蚀性能,曝光前后,溶解速度差增大,有利于改善显影后图形的边缘粗糙度,大大提高了光刻图案的分辨率,并且,增加了含其的聚合树脂在酯类溶剂中的溶解性。

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