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半导体装置以及其制造方法

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN201080002455.7
  • IPC分类号:H01L27/14H01L23/02H01L31/0232
  • 申请日期:
    2010-01-07
  • 申请人:
    松下电器产业株式会社
著录项信息
专利名称半导体装置以及其制造方法
申请号CN201080002455.7申请日期2010-01-07
法律状态放弃专利权申报国家中国
公开/公告日2011-08-03公开/公告号CN102144292A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L27/14IPC分类号H01L27/14;H01L23/02;H01L31/0232查看分类表>
申请人松下电器产业株式会社申请人地址
日本*** 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人松下电器产业株式会社当前权利人松下电器产业株式会社
发明人内海胜喜;中野高宏;佐野光
代理机构永新专利商标代理有限公司代理人黄剑锋
摘要
提供一种半导体装置以及其制造方法,该半导体装置具备成本低且可靠性以及批量生产能力高的元件结构。半导体装置(100),具备:基板(101),包括摄像区域(102),并具备第一主面和第二主面;电极部(103),被形成在第一主面上;外部电极(109),被形成在第二主面上;导体层(108),被形成在贯穿基板(101)的贯穿孔中,使电极部(103)和外部电极(109)电连接;光学部件(105),被形成在第一主面的上方,具备具有凸形的凸形面;以及透光材料(106),被粘接到光学部件(105)以覆盖凸形,透光材料(106)的上面平坦。

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