量子点场效应晶体管及制作方法、阵列基板和检测装置

发明专利有效专利

申请号：
CN201410707496.6
IPC分类号：H01L29/78;H01L29/47;H01L21/336
申请日期：
2014-11-27
申请人：
京东方科技集团股份有限公司

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专利名称	量子点场效应晶体管及制作方法、阵列基板和检测装置
申请号	CN201410707496.6	申请日期	2014-11-27
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日	2015-03-11	公开/公告号	CN104409506A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	H01L29/78 ? IPC结构图谱： H 电学 H9 电学 H01 基本电气元件 H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件（使用半导体器件的测量入G01；一般电阻器入H01C；磁体、电感器、变压器入H01F；一般电容器入H01G；电解型器件入H01G 9/00；电池组、蓄电池入H01M；波导管、谐振器或波导型线路入H01P；线路连接器、汇流器入H01R；受激发射器件入H01S；机电谐振器入H03H；扬声器、送话器、留声机拾音器或类似的声机电传感器入H04R；一般电光源入H05B；印刷电路、混合电路、电设备的外壳或结构零部件、电气元件的组件的制造入H05K；在具有特殊应用的电路中半导体器件的使用见该应用的小类）〔2〕 H01L29/00 专门适用于整流、放大、振荡或切换，并具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的半导体器件；具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒，例如PN结耗尽层或载流子集结层的电容器或电阻器；半导体本体或其电极的零部件（H01L 31/00至H01L 47/00，H01L 51/05优先；除半导体或其电极之外的零部件入H01L 23/00；由在一个共用衬底内或其上形成的多个固态组件组成的器件入H01L 27/00）〔2，6〕 H01L29/66 按半导体器件的类型区分的〔2〕 H01L29/68 只能通过对一个不通有待整流、放大或切换的电流的电极供给电流或施加电位方可进行控制的（H01L 29/96优先）〔2〕 H01L29/76 单极器件〔2〕 H01L29/772 场效应晶体管〔6〕 H01L29/78 由绝缘栅产生场效应的〔2〕	IPC分类号	H;0;1;L;2;9;/;7;8;;;H;0;1;L;2;9;/;4;7;;;H;0;1;L;2;1;/;3;3;6查看分类表>
申请人	京东方科技集团股份有限公司	申请人地址	北京市朝阳区酒仙桥路10号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	京东方科技集团股份有限公司	当前权利人	京东方科技集团股份有限公司
发明人	徐晓娜;周婷婷;刘翔
代理机构	北京中博世达专利商标代理有限公司	代理人	申健

摘要

本发明的实施例提供一种量子点场效应晶体管及制作方法、阵列基板和检测装置，涉及半导体技术领域，解决了现有技术中形成源区和漏区需要多次刻蚀的问题，减少了制作工艺，降低了生产成本。该量子点场效应晶体管包括：形成在衬底上的上势垒层，还包括：肖特基接触层，其中：所述肖特基接触层设置在所述上势垒层上，与所述上势垒层的中间区域对应的位置处；所述肖特基接触层的材料为金属材料；所述上势垒层上与所述肖特基接触层对应的区域的一侧为源区，另一侧为漏区。本发明应用与半导体器件制作技术中。

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