发光性有机高分子金属配合物和能湿式制膜的发光性有机高分子金属配合物组合物及其制造方法

发明专利无效专利

申请号：
CN200480014974.X
IPC分类号：C08F8/42;C08F20/36;C09K11/06;H05B33/14
申请日期：
2004-06-01
申请人：
日本轻金属株式会社;工藤一秋

基础信息

权利要求

说明书

PDF全文

法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	发光性有机高分子金属配合物和能湿式制膜的发光性有机高分子金属配合物组合物及其制造方法
申请号	CN200480014974.X	申请日期	2004-06-01
法律状态	权利终止	申报国家	暂无
公开/公告日	2006-07-05	公开/公告号	CN1798776
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	C08F8/42 ? IPC结构图谱： C 化学；冶金 C0 化学 C08 有机高分子化合物；其制备或化学加工；以其为基料的组合物 C08F 仅用碳-碳不饱和键反应得到的高分子化合物（由低碳烃制造液态烃混合物，例如通过齐聚作用入C10G 50/00；发酵或使用酶的方法合成目标化合物或组合物或从外消旋混合物中分离旋光异构体入C12P；含有碳-碳不饱和键的单体接枝聚合到纤维、丝线、纱线、织物或用这些材料制成的纤维制品入D06M 14/00）〔2〕 C08F8/00 用后处理进行化学改性（接枝聚合物、嵌段聚合物、与不饱和单体或与聚合物交联入C08F 251/00至C08F 299/00；对于共轭二烯橡胶入C08C）〔2〕 C08F8/42 引入金属原子或含金属基团〔2〕	IPC分类号	C;0;8;F;8;/;4;2;;;C;0;8;F;2;0;/;3;6;;;C;0;9;K;1;1;/;0;6;;;H;0;5;B;3;3;/;1;4查看分类表>
申请人	日本轻金属株式会社;工藤一秋	申请人地址	日本东京变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	日本轻金属株式会社,工藤一秋	当前权利人	日本轻金属株式会社,工藤一秋
发明人	工藤一秋;小林恭;高山俊雄;佐野弘
代理机构	中国国际贸易促进委员会专利商标事务所	代理人	陈昕

摘要

本发明提供一种由在高分子聚合物的侧链通过间隔基引入了8-羟基喹啉衍生物的高分子配体(polyQ)、8-羟基喹啉衍生物配体(K)、和2～4价的金属离子(Mn+)的反应而得到的、用polyQ·M·Kn-1(1)表示的发光性有机高分子金属配合物，其中8-羟基喹啉衍生物配体(K)具有体积大的取代基。另外，本发明提供一种也包含该发光性有机高分子金属配合物和低分子配体的发光性有机高分子金属配合物组合物、及其制造方法。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有引用任何外部专利数据！

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有被任何外部专利所引用！

我浏览过的专利

专利服务由北京酷爱智慧知识产权代理公司提供