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压差密封结构

实用新型有效专利
  • 申请号:
    CN201721489268.1
  • IPC分类号:F16J15/18F16J15/26F16J15/10
  • 申请日期:
    2017-11-09
  • 申请人:
    昆明纳太科技有限公司
著录项信息
专利名称压差密封结构
申请号CN201721489268.1申请日期2017-11-09
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日公开/公告号
优先权暂无优先权号暂无
主分类号F16J15/18IPC分类号F16J15/18;F16J15/26;F16J15/10查看分类表>
申请人昆明纳太科技有限公司申请人地址
云南省昆明市高新区科发路139号云南省大学科技园2期A2幢3楼3*** 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人昆明纳太科技有限公司当前权利人昆明纳太科技有限公司
发明人陈东平;肖辉;冯俊杰;刘铸
代理机构广州华进联合专利商标代理有限公司代理人林青中
摘要
本实用新型公开了一种压差密封结构。该压差密封结构包括密封底层、密封接触层以及粘接层。该压差密封结构及使用该压差密封结构的压差密封方法既能够用于静密封,又能够用于动密封,尤其适合两侧具有压力差的密封,如使用在具有负压的真空结构上,其中密封接触层可以直接贴合在待密封部位,由于密封接触层为弹性体,在密封接触层两侧有压力差存在的情况下,可紧紧地贴合在待密封部位,而密封底层的弹性模量较大,可给密封接触层提供一个很好的压力及其强度保障,防止密封接触层在两侧压力差的作用下被吸入待密封部位的缝隙中。因而上述压差密封结构及使用该压差密封结构的压差密封方法密封效果好,使用灵活方便。

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