成膜装置和成膜材料供给方法

发明专利无效专利

申请号：
CN201180048262.X
IPC分类号：C23C14/24;H01L51/50
申请日期：
2011-10-03
申请人：
东京毅力科创株式会社

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著录项信息

专利名称	成膜装置和成膜材料供给方法
申请号	CN201180048262.X	申请日期	2011-10-03
法律状态	撤回	申报国家	暂无
公开/公告日	2013-06-12	公开/公告号	CN103154305A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	C23C14/24 ? IPC结构图谱： C 化学；冶金 C2 冶金 C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕 C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆（挤压法制造包覆金属的产品入B21C23/22；通过将预先存在的薄层连接到制品上的方法用金属进行镀覆处理的见各有关位置，例如B21D39/00，B23K；玻璃的金属化入C03C；砂浆、混凝土、人造石、陶瓷或天然石的金属化入C04B41/00；金属的搪瓷或向金属上镀覆玻璃体层入c23D；用电解法或电泳法处理金属表面或镀覆金属入C25D；单晶膜生长入C30B；纺织品的金属化入D06M11/83；用局部金属化法装饰纺织品入D06Q1/04）〔4〕 C23C14/00 通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆〔4，2006.01〕 C23C14/22 以镀覆工艺为特征的〔4〕 C23C14/24 真空蒸发〔4〕	IPC分类号	C;2;3;C;1;4;/;2;4;;;H;0;1;L;5;1;/;5;0查看分类表>
申请人	东京毅力科创株式会社	申请人地址	日本东京都变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	东京毅力科创株式会社	当前权利人	东京毅力科创株式会社
发明人	小野裕司;林辉幸;金子裕是
代理机构	北京尚诚知识产权代理有限公司	代理人	龙淳

摘要

本发明提供能够抑制蒸气产生部内部的压力上升和温度上升，能够进行精密的温度控制的成膜装置。对玻璃基板（G）进行成膜处理的成膜装置具有：収容玻璃基板（G）的处理室（5）；通过对成膜材料进行加热，产生该成膜材料的蒸气的蒸气产生部（1）；用于将在蒸气产生部（1）中产生的成膜材料的蒸气与运载气体一起输送到处理室（5）的输送路径（21）；排气路径（22）；设置在输送路径途中的调节阀装置（31）；和设置在排气路径（22）途中的排气阀装置（32）；对蒸气产生部（1）的温度进行检测的材料温度检测部（64）；第一蒸气量检测部（23）；和控制部（8），在对成膜材料进行加热时，根据蒸气产生部（1）的温度的高低，对排气阀装置（32）的开关动作进行控制，在将成膜材料向上述处理室输送时，在由第一蒸气量检测部（23）检测出的蒸气量稳定时，关闭排气阀装置（32），打开调节阀装置（31）。

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