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用于调节光刻设备的致动的方法

发明专利有效专利

申请号：
CN201780023568.7
IPC分类号：G03F7/20;G03F9/00
申请日期：
2017-04-04
申请人：
ASML荷兰有限公司

基础信息

权利要求

说明书

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法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	用于调节光刻设备的致动的方法
申请号	CN201780023568.7	申请日期	2017-04-04
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日	2018-12-21	公开/公告号	CN109073987A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G03F7/20 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕 G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备（照相排版装置入B41B；为摄影用的感光材料或处理入G03C；电记录、感光层或处理入G03G） G03F7/00 图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备（用于特殊工艺的光致抗蚀剂结构见相关的位置，例如，B44C，H01L，例如，H01L 21/00，H05K）〔3，5〕 G03F7/20 曝光及其设备（复制用照相印制设备入G03B 27/00）〔4〕	IPC分类号	G;0;3;F;7;/;2;0;;;G;0;3;F;9;/;0;0查看分类表>
申请人	ASML荷兰有限公司	申请人地址	荷兰维德霍温变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	ASML荷兰有限公司	当前权利人	ASML荷兰有限公司
发明人	R·M·G·J·昆斯;E·P·施密特-韦弗
代理机构	北京市金杜律师事务所	代理人	暂无

摘要

光刻设备是一种将期望的图案施加到衬底上(通常施加到衬底的目标部分上)的机器。针对参考衬底，确定跨衬底的局部高度偏差与聚焦信息(诸如所确定的聚焦量)之间的函数关系。随后针对另一衬底(例如，生产衬底)测量高度偏差。使用后续衬底的高度偏差和函数关系确定后续衬底的预测的聚焦信息。然后使用预测的聚焦信息来控制光刻设备以将产品图案施加到产品衬底。

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