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半导体装置的制造方法、基板处理装置以及程序

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201980094512.X
  • IPC分类号:H01L21/205;C23C16/455
  • 申请日期:
    2019-03-25
  • 申请人:
    株式会社国际电气
著录项信息
专利名称半导体装置的制造方法、基板处理装置以及程序
申请号CN201980094512.X申请日期2019-03-25
法律状态公开申报国家暂无
公开/公告日2021-11-05公开/公告号CN113614881A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L21/205IPC分类号H;0;1;L;2;1;/;2;0;5;;;C;2;3;C;1;6;/;4;5;5查看分类表>
申请人株式会社国际电气申请人地址
日本东京都 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人株式会社国际电气当前权利人株式会社国际电气
发明人野野村一树;竹林雄二
代理机构北京银龙知识产权代理有限公司代理人金成哲;宋春华
摘要
本发明提供一种技术,具有以下工序:在处理室内积载并容纳多个基板的工序;从第一喷嘴和第二喷嘴针对多个基板供给原料气体的工序,上述第一喷嘴在处理室内沿多个基板的基板积载方向设置且从基板积载方向的上部供给的气体的流量比从下部供给的气体的流量多,上述第二喷嘴在处理室内沿基板积载方向设置且从基板积载方向的下部供给的气体的流量比从上部供给的气体的流量多;以及针对多个基板供给反应气体的工序。

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