压力测量装置

发明专利无效专利

申请号：
CN200880115289.4
IPC分类号：G01L9/00;G01L13/02
申请日期：
2008-11-07
申请人：
恩德莱斯和豪瑟尔两合公司

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法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	压力测量装置
申请号	CN200880115289.4	申请日期	2008-11-07
法律状态	权利终止	申报国家	中国
公开/公告日	2011-11-23	公开/公告号	CN102257372A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G01L9/00 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G01 测量；测试 G01L 测量力、应力、转矩、功、机械功率、机械效率或流体压力（称量入G01G）〔4〕 G01L9/00 用电或磁的压敏元件测量流体或流动固体材料的稳定或准稳定压力；用电或磁的方法传递或指示机械压敏元件的位移，该机械压敏元件是用来测量流体或流动固体材料的稳定或准稳定压力的（测量两个或多个压力差值的入G01L 13/00；同时测量两个或多个压力值的入G01L 15/00）	IPC分类号	G;0;1;L;9;/;0;0;;;G;0;1;L;1;3;/;0;2查看分类表>
申请人	恩德莱斯和豪瑟尔两合公司	申请人地址	德国毛尔堡变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	恩德莱斯和豪瑟尔两合公司	当前权利人	恩德莱斯和豪瑟尔两合公司
发明人	伊戈尔·格特曼;迪特尔·施托尔塞;英·图安·塔姆
代理机构	中原信达知识产权代理有限责任公司	代理人	邹璐;樊卫民

摘要

本发明公开了一种压力测量装置，其具有基座(13，13’)、由半导体制成的设置在基座(13，13’)上且与基座(13，13’)相连的中间件(15，15’)、和设置在中间件(15，15’)上并与中间件(15，15’)相连的半导体压力传感器(17)，该压力传感器具有支座(19)和测量薄膜(21)。压力测量装置可靠地保护敏感的测量薄膜(21)抵抗机械应变。在中间件(15，15’)中提供在中间件(15，15’)的内部延伸的环形分布的凹口(33)，该凹口围绕中间件(15，15’)的第一圆柱区段(35)以及在基座侧与第一圆柱区段邻接的第二圆柱区段(37)。第二圆柱区段(37)的外径比第一圆柱区段(35)的要大。凹口向着中间件(15，15’)朝向基座(13，13’)的侧面打开。第二圆柱区段(37)具有朝向基座(13，13’)且位于基座(13，13’)暴露的端面上的端面，该端面形成连接面，中间件(15，15’)通过该连接面与基座(13，13’)牢固地机械连接。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有引用任何外部专利数据！

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该专利没有被任何外部专利所引用！

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