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光学扫描装置,遮光材料,遮挡亮光的方法以及图像形成设备

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN200710147500.8
  • IPC分类号:G02B26/10;G03G15/00;B41J2/435
  • 申请日期:
    2007-09-19
  • 申请人:
    株式会社理光
著录项信息
专利名称光学扫描装置,遮光材料,遮挡亮光的方法以及图像形成设备
申请号CN200710147500.8申请日期2007-09-19
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2008-03-26公开/公告号CN101149477
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G02B26/10IPC分类号G;0;2;B;2;6;/;1;0;;;G;0;3;G;1;5;/;0;0;;;B;4;1;J;2;/;4;3;5查看分类表>
申请人株式会社理光申请人地址
日本东京都大田区中马込1丁目3番6号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人株式会社理光当前权利人株式会社理光
发明人由村贤一
代理机构上海市华诚律师事务所代理人徐申民
摘要
揭示了一种光学扫描装置,包括:复数个发射光束的光束发射装置;偏转装置,用来将从光束发射装置发射的复数个光束偏转进基本相对的方向;相对于作为中心的偏转装置基本以相对的方式布置的扫描光学系统,每个扫描光学系统使用由偏转装置偏转的光束对扫描表面进行扫描;以及至少一个遮挡从扫描光学系统中的第一扫描透镜发出的亮光的遮光材料,从而阻止亮光投影到基本相对的扫描光学系统的第二扫描透镜上。遮挡从第一扫描透镜发出的亮光的遮光材料被布置为离第二扫描透镜比离第一扫描透镜更近。

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