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基于氟的离子源清洁

发明专利有效专利

申请号：
CN200680053147.0
IPC分类号：H01J37/08;H01J37/317
申请日期：
2006-12-20
申请人：
艾克塞利斯科技公司

基础信息

权利要求

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法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	基于氟的离子源清洁
申请号	CN200680053147.0	申请日期	2006-12-20
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日	2009-03-04	公开/公告号	CN101379583
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	H01J37/08 ? IPC结构图谱： H 电学 H9 电学 H01 基本电气元件 H01J 放电管或放电灯（火花隙入H01T；消耗电极的弧光灯入H05B；粒子加速器入H05H） H01J37/00 有把物质或材料引入使受到放电作用的结构的电子管，例如为了对其检验或加工的（H01J 33/00、H01J 40/00、H01J 41/00、H01J 47/00、H01J 49/00优先）〔2，5〕 H01J37/02 零部件 H01J37/04 电极装置及与产生或控制放电的部件有关的装置，如电子光学装置，离子光学装置 H01J37/08 离子源；离子枪	IPC分类号	H;0;1;J;3;7;/;0;8;;;H;0;1;J;3;7;/;3;1;7查看分类表>
申请人	艾克塞利斯科技公司	申请人地址	美国马萨诸塞州变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	艾克塞利斯科技公司	当前权利人	艾克塞利斯科技公司
发明人	威廉·雷诺斯;克里斯托弗·雷格登;威廉·狄佛吉利欧;辛·乔伊丝;丹尼尔·堤格
代理机构	中科专利商标代理有限责任公司	代理人	王波波

摘要

一种用于从离子源内表面清除沉积的沉积清洁系统，包括：氟源、节流机构、以及控制器。氟源将氟作为清洁材料供至离子源。节流机构通过至少部分覆盖源孔径的方式，减少通过离子源的源孔径的氟损失。控制器控制从氟源到离子源的供氟以及流速，还控制节流机构的定位。

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