用于多个微型喷嘴涂布机的光致抗蚀剂组合物

发明专利有效专利

申请号：
CN200410028333.1
IPC分类号：G03F7/016;G03F7/039;H01L21/00
申请日期：
2004-01-03
申请人：
三星电子株式会社

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著录项信息

专利名称	用于多个微型喷嘴涂布机的光致抗蚀剂组合物
申请号	CN200410028333.1	申请日期	2004-01-03
法律状态	暂无	申报国家	中国
公开/公告日	2004-12-01	公开/公告号	CN1550897
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G03F7/016 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕 G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备（照相排版装置入B41B；为摄影用的感光材料或处理入G03C；电记录、感光层或处理入G03G） G03F7/00 图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备（用于特殊工艺的光致抗蚀剂结构见相关的位置，例如，B44C，H01L，例如，H01L 21/00，H05K）〔3，5〕 G03F7/004 感光材料（G03F 7/12，G03F 7/14优先）〔5〕 G03F7/016 重氮盐或化合物（G03F 7/075优先）〔5〕	IPC分类号	G;0;3;F;7;/;0;1;6;;;G;0;3;F;7;/;0;3;9;;;H;0;1;L;2;1;/;0;0查看分类表>
申请人	三星电子株式会社	申请人地址	韩国京畿道变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	东进瑟弥侃株式会社,三星显示有限公司	当前权利人	东进瑟弥侃株式会社,三星显示有限公司
发明人	姜圣哲;周振豪;李有京;李东基;金孝烈;姜勋;李承昱;金柄郁
代理机构	北京市柳沈律师事务所	代理人	张平元;赵仁临

摘要

本发明涉及一种用于MMN(多个微型喷嘴)涂布机的光致抗蚀剂组合物，更具体地，本发明涉及一种用于液晶显示器电路的光致抗蚀剂组合物，其包含分子量为2000～12000的酚醛清漆树脂、重氮化物光活性化合物、有机溶剂和硅基表面活性剂。本发明的用于液晶显示器电路的光致抗蚀剂组合物解决了在用于大型基底玻璃的MMN涂布机中出现的污染问题，并提高了涂层性能，因此它能够在工业上应用，并预期明显提高生产率。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
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