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*来源于国家知识产权局数据,仅供参考,实际以国家知识产权局展示为准

一种双光子三维光刻装置

实用新型专利有效专利
  • 申请号:
    CN202120618113.3
  • IPC分类号:G03F7/20
  • 申请日期:
    2021-03-26
  • 申请人:
    杭州志英科技有限公司
著录项信息
专利名称一种双光子三维光刻装置
申请号CN202120618113.3申请日期2021-03-26
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日公开/公告号
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G03F7/20IPC分类号G;0;3;F;7;/;2;0查看分类表>
申请人杭州志英科技有限公司申请人地址
浙江省杭州市萧山区传化科创大厦1幢萧山科技城301-56室 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人杭州志英科技有限公司当前权利人杭州志英科技有限公司
发明人魏一振;张卓鹏;洪芸芸
代理机构暂无代理人暂无
摘要
本实用新型公开了一种双光子三维光刻装置,包括光源模块,光源模块上设有波长不同的第一光路和第二光路,第一光路和第二光路上各自设有色散补偿器;空间光调制模块,对第一光路和第二光路分别调制产生第一光强分布图和第二光强分布图;投影模块,将空间光调制模块产生的第一光强分布图和第二光强分布图成像于物镜的焦平面上;位移模块,用于对光刻胶的三维扫描和光刻,所述第一光强分布图和第二光强分布图部分重叠聚焦在光刻胶内部,对光刻胶进行光刻;计算机,用于控制色散补偿器、空间光调制模块和位移模块。本申请的双光子三维光刻装置,采用面投影光刻技术,通过“时空光片叠加”和“实时色散补偿”技术提高纵向加工精度。

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