提高空间分辨率的异质外延生长氮化镓位错密度检测方法

发明专利有效专利

申请号：
CN202110279802.0
IPC分类号：G01N21/64
申请日期：
2021-03-16
申请人：
北京大学长三角光电科学研究院

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著录项信息

专利名称	提高空间分辨率的异质外延生长氮化镓位错密度检测方法
申请号	CN202110279802.0	申请日期	2021-03-16
法律状态	实质审查	申报国家	中国
公开/公告日	2021-07-02	公开/公告号	CN113063760A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G01N21/64 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G01 测量；测试 G01N （除免疫测定法以外包括酶或微生物的测量或试验入C12M，C12Q） G01N21/00 利用光学手段，即利用红外光、可见光；或紫外光来测试或分析材料（G01N 3/00至G01N 19/00优先） G01N21/62 所测试的材料在其中被激发，因之引起材料发光或入射光的波长发生变化的系统〔3〕 G01N21/63 光学激发的〔3〕 G01N21/64 荧光；磷光〔3〕	IPC分类号	G;0;1;N;2;1;/;6;4查看分类表>
申请人	北京大学长三角光电科学研究院	申请人地址	江苏省南通市崇川区崇州大道60号紫琅科技城15号楼变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	北京大学长三角光电科学研究院	当前权利人	北京大学长三角光电科学研究院
发明人	施可彬;杨燕青;高翔;马睿;杨文凯
代理机构	北京万象新悦知识产权代理有限公司	代理人	王岩

摘要

本发明公开了一种提高空间分辨率的异质外延生长氮化镓位错密度检测方法。本发明首先通过温控系统将被检测样品周围的环境温度调节到合适的点，从而抑制扩散长度变大，进一步获得更高的空间分辨率；其次通过单个量子点成像获得成像系统的点扩展函数，利用二维的点扩散函数得到了频域内的光传递函数，对点扩散函数进行逆滤波处理，对样品位错的采集图像进行解卷积处理得到原始图像，从而消除周围环境影响，获得更为精准的图像；随后，对氮化镓位错的尺寸大小、相对密度进行定量分析；最后，进一步基于温控系统及解卷积技术，利用宽场荧光成像技术、阴极发光技术、三光子荧光显微成像及多光子荧光显微成像观测了更为精确的氮化镓薄膜的位错。

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