利用非线性干涉仪进行成像或光谱分析的方法

发明专利有效专利

申请号：
CN202110217232.2
IPC分类号：G01N21/45;G01N21/25;G01N21/01
申请日期：
2021-02-26
申请人：
弗劳恩霍夫应用研究促进协会

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著录项信息

专利名称	利用非线性干涉仪进行成像或光谱分析的方法
申请号	CN202110217232.2	申请日期	2021-02-26
法律状态	实质审查	申报国家	中国
公开/公告日	2021-08-31	公开/公告号	CN113324951A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G01N21/45 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G01 测量；测试 G01N （除免疫测定法以外包括酶或微生物的测量或试验入C12M，C12Q） G01N21/00 利用光学手段，即利用红外光、可见光；或紫外光来测试或分析材料（G01N 3/00至G01N 19/00优先） G01N21/17 入射光根据所测试的材料性质而改变的系统（其中所测试的材料因受到光学激发而引起入射光波长改变的入G01N 21/63）〔3〕 G01N21/41 折射率；影响相位的性质，例如光程长度（G01N 21/21优先）〔3〕 G01N21/45 利用干涉量度法，利用纹影方法〔3〕	IPC分类号	G;0;1;N;2;1;/;4;5;;;G;0;1;N;2;1;/;2;5;;;G;0;1;N;2;1;/;0;1查看分类表>
申请人	弗劳恩霍夫应用研究促进协会	申请人地址	德国慕尼黑变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	弗劳恩霍夫应用研究促进协会	当前权利人	弗劳恩霍夫应用研究促进协会
发明人	F·施泰因勒希纳;M·G·巴塞特;M·格雷夫
代理机构	北京市中咨律师事务所	代理人	贺月娇;杨晓光

摘要

本发明涉及利用非线性干涉仪进行成像或光谱分析的方法。要求保护一种用于成像和/或光谱分析的方法，包括以下步骤：i)通过泵浦第一非线性介质来产生第一信号场和第一闲置场，使得这两个场相关，ii)用第一闲置场照射物体，iii)通过泵浦第一非线性介质产生第二信号场和第二闲置场，使得这两个场相关，iv)组合第一和第二闲置场，使得这两个场不可区分，并且组合第一和第二信号场，使得这两个场相互干涉，v)通过检测装置对干涉信号场进行第一测量，vi)对干涉信号场进行一次或多次附加测量，其中对于步骤vi)中的每次附加测量，在设置中产生不同的相移α，并且其中在设置的稳定时间内执行所有测量，vii)计算相位函数Φ。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
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