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构件图形、配线结构体以及图像显示装置的制造方法

发明专利无效专利

申请号：
CN200710112260.8
IPC分类号：G03F7/00;H01J9/02
申请日期：
2003-07-18
申请人：
佳能株式会社

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权利要求

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法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	构件图形、配线结构体以及图像显示装置的制造方法
申请号	CN200710112260.8	申请日期	2003-07-18
法律状态	权利终止	申报国家	中国
公开/公告日	2007-12-12	公开/公告号	CN101086616
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G03F7/00 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕 G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备（照相排版装置入B41B；为摄影用的感光材料或处理入G03C；电记录、感光层或处理入G03G） G03F7/00 图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备（用于特殊工艺的光致抗蚀剂结构见相关的位置，例如，B44C，H01L，例如，H01L 21/00，H05K）〔3，5〕	IPC分类号	G;0;3;F;7;/;0;0;;;H;0;1;J;9;/;0;2查看分类表>
申请人	佳能株式会社	申请人地址	日本东京变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	佳能株式会社	当前权利人	佳能株式会社
发明人	山田修嗣;蜂巢高弘;目黒忠靖
代理机构	中国国际贸易促进委员会专利商标事务所	代理人	付建军

摘要

本发明提供一种构件图形、配线结构体以及图像显示装置的制造方法。在基板上具备图形化构件的构件图形的制造方法，包括：使施加到基板上的负性感光材料的所要求区域从第一方向进行曝光的第一曝光工序；从与上述第一曝光方向的相反的第二方向进行曝光的第二曝光工序；在上述曝光工序之后进行显影而形成上述构件的前体图形的显影工序；以及对上述前体图形进行焙烧的工序。

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