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用于半导体晶片抛光系统的载具的多流体供应设备

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN200580050264.7
  • IPC分类号:H01L21/304
  • 申请日期:
    2005-06-28
  • 申请人:
    斗山MECATEC株式会社
著录项信息
专利名称用于半导体晶片抛光系统的载具的多流体供应设备
申请号CN200580050264.7申请日期2005-06-28
法律状态权利终止申报国家中国
公开/公告日2008-06-25公开/公告号CN101208780
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L21/304
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IPC分类号H;0;1;L;2;1;/;3;0;4查看分类表>
申请人斗山MECATEC株式会社申请人地址
韩国庆尚南道 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人斗山MECATEC株式会社,韩国京畿道当前权利人斗山MECATEC株式会社,韩国京畿道
发明人徐盛范
代理机构北京润平知识产权代理有限公司代理人周建秋;王凤桐
摘要
本发明涉及一种用于半导体晶片抛光系统的载具的多流体供应设备,该设备包括位于驱动端的旋转管套节和位于从动端的旋转管套节。所述驱动端的旋转管套节包括:中心旋转轴;流体供应管体,所述流体供应管体以与中心旋转轴同轴的方式设置,被固定地支撑,并且在其内部形成有多个流体通道;密封罩套,所述密封罩套以同轴的方式设置在所述流体供应管体的外圆周上,以被可旋转地支撑;和密封单元,所述密封单元用于保持所述流体供应管体和所述密封罩套之间的气密性。所述从动端的旋转管套节包括:中心旋转轴;密封罩套,所述密封罩套沿着所述中心旋转轴的圆周同轴地设置,其一末端固定于所述心轴的内部,从而支撑所述中心旋转轴,使所述中心旋转轴稳定旋转;和密封单元,所述密封单元用于保持所述中心旋转轴和所述密封罩套之间的气密性。根据本发明:1)防止了当中心旋转轴旋转时,所述中心旋转轴两末端之间的滚动现象所造成的密封性能的下降;2)操作流体可平稳地供应至每一载具;以及3)旋转体和非旋转体之间的接触部分简化成单层密封结构,同时保持着高密封性能。

专利服务由北京酷爱智慧知识产权代理公司提供