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一种横向双扩散金属氧化物半导体场效应管

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN201611248826.5
  • IPC分类号:H01L29/78;H01L29/06
  • 申请日期:
    2016-12-29
  • 申请人:
    西安电子科技大学
著录项信息
专利名称一种横向双扩散金属氧化物半导体场效应管
申请号CN201611248826.5申请日期2016-12-29
法律状态驳回申报国家中国
公开/公告日2017-06-20公开/公告号CN106876464A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L29/78
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IPC结构图谱:
IPC分类号H;0;1;L;2;9;/;7;8;;;H;0;1;L;2;9;/;0;6查看分类表>
申请人西安电子科技大学申请人地址
陕西省西安市太白南路2号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人西安电子科技大学当前权利人西安电子科技大学
发明人段宝兴;袁嵩;董自明;郭海君;杨银堂
代理机构西安智邦专利商标代理有限公司代理人胡乐
摘要
本发明公开一种横向双扩散金属氧化物半导体场效应管。该结构中设置辅助耗尽衬底埋层于漏端下方,该埋层可以扩展横向双扩散金属氧化物半导体场效应管的纵向空间电荷区,从而突破由于纵向耐压受限而带来的电压饱和现象,同时该埋层还能够利用电场调制效应对表面横向电场和体内纵向电场进行调制,从而在保证器件低导通电阻的条件下,可以大幅度提高器件的击穿电压。

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