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一种采用电解工艺清除晶片表面磷硅-硼硅玻璃氧化层的夹具

实用新型专利有效专利
  • 申请号:
    CN201820317731.2
  • IPC分类号:H01L21/687
  • 申请日期:
    2018-03-08
  • 申请人:
    上海旭福电子有限公司
著录项信息
专利名称一种采用电解工艺清除晶片表面磷硅-硼硅玻璃氧化层的夹具
申请号CN201820317731.2申请日期2018-03-08
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日公开/公告号
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L21/687IPC分类号H;0;1;L;2;1;/;6;8;7查看分类表>
申请人上海旭福电子有限公司申请人地址
上海市松江区洞泾镇振业路6号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人上海旭福电子有限公司当前权利人上海旭福电子有限公司
发明人马兆国;蔡荣华;黄建勋
代理机构上海东亚专利商标代理有限公司代理人罗习群;陈臻晔
摘要
本实用新型提供一种采用电解工艺清除晶片表面磷硅‑硼硅玻璃氧化层的夹具,夹具由面板和底板两块绝缘板构成,两块绝缘板用螺钉连接在一起能分离,面板和底板上对应地有定位槽,电极导电凹槽,圆形通孔,圆形通孔内圆有导电的电极,在面板的圆形通孔和电极导电凹槽之间,有二根隐性导电极与圆形通孔内圆电极连通,在底板圆形通孔的上方有一段凸起平口。所述二根隐性导电极是注塑在面板内的钛电极,不露在表面。所述圆形通孔内圆的电极是注塑在绝缘板内圆。本实用新型的优点是,实现了通过电解的方式去除晶片wafer表面的磷硅玻璃、硼硅玻璃氧化层,降低了传统喷砂工艺的造成晶片wafer表面损伤机率,保证了产品表面的一致性及稳定性。

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