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显示基板及其制作方法以及显示基板制作系统和显示装置

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201510350381.0
  • IPC分类号:G03F1/50;G03F7/00;G09G3/3208;H01L27/32
  • 申请日期:
    2015-06-23
  • 申请人:
    京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司
著录项信息
专利名称显示基板及其制作方法以及显示基板制作系统和显示装置
申请号CN201510350381.0申请日期2015-06-23
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2015-09-09公开/公告号CN104898369A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G03F1/50IPC分类号G;0;3;F;1;/;5;0;;;G;0;3;F;7;/;0;0;;;G;0;9;G;3;/;3;2;0;8;;;H;0;1;L;2;7;/;3;2查看分类表>
申请人京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司申请人地址
北京市朝阳区酒仙桥路10号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人京东方科技集团股份有限公司,鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司当前权利人京东方科技集团股份有限公司,鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司
发明人王震
代理机构北京风雅颂专利代理有限公司代理人李莎
摘要
本发明涉及一种显示基板及其制作方法以及显示基板制作系统和显示装置,上述方法包括:通过第一掩膜板在第一电路和第四电路之上形成第一子像素;通过第二掩膜板在第二电路和第四电路之上形成第二子像素;通过第三掩膜板在第三电路和第四电路之上形成第三子像素,第四电路上的第一子像素、第二子像素和第三子像素叠加形成第四子像素。根据本发明的技术方案,由于掩膜板的每个开口对应两个子像素区域,相对于现有技术中掩膜板的开口对应一个子像素区域,掩膜板的开口面积较大,可以降低受到外力或磁场而发生形变的程度,从而可以提高形成子像素的精度,提高制作良率。

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