一种改进气体分布的等离子蚀刻设备

实用新型专利有效专利

申请号：
CN202020689928.6
IPC分类号：H01J37/02;H01J37/18;H01J37/305
申请日期：
2020-04-29
申请人：
珠海恒格电子科技有限公司

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著录项信息

专利名称	一种改进气体分布的等离子蚀刻设备
申请号	CN202020689928.6	申请日期	2020-04-29
法律状态	暂无	申报国家	中国
公开/公告日		公开/公告号
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	H01J37/02 ? IPC结构图谱： H 电学 H9 电学 H01 基本电气元件 H01J 放电管或放电灯（火花隙入H01T；消耗电极的弧光灯入H05B；粒子加速器入H05H） H01J37/00 有把物质或材料引入使受到放电作用的结构的电子管，例如为了对其检验或加工的（H01J 33/00、H01J 40/00、H01J 41/00、H01J 47/00、H01J 49/00优先）〔2，5〕 H01J37/02 零部件	IPC分类号	H;0;1;J;3;7;/;0;2;;;H;0;1;J;3;7;/;1;8;;;H;0;1;J;3;7;/;3;0;5查看分类表>
申请人	珠海恒格电子科技有限公司	申请人地址	广东省珠海市横琴新区宝华路6号105室-63474（集中办公区）变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	珠海恒格微电子装备有限公司	当前权利人	珠海恒格微电子装备有限公司
发明人	陈磊;廖文含;赵义党;李志强
代理机构	广州三环专利商标代理有限公司	代理人	卢泽明

摘要

本实用新型公开一种改进气体分布的等离子蚀刻设备，包括真空箱体，真空箱体内部形成真空腔室，真空腔室内设置有多块电极，多块电极相互平行且沿竖直方向设置，真空腔室顶部两侧对称地设置有第一气体主气管、第二气体主气管，第一气体主气管、第二气体主气管沿水平方向设置；真空箱体的顶部设置有第一进气口、第二进气口，反应气体由第一进气口、第二进气口分别进入第一气体主气管、第二气体主气管内，流经第一气体通道和第二气体通道后由第一气体主气管、第二气体主气管流出，输送至真空腔室内。本实用新型结构简单、安装维修简单、成本低，气体进气方式分布均匀，改善了气体在等离子蚀刻设备从外界到电极的分布均匀性。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
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