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多孔石墨表膜

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201880075083.7
  • IPC分类号:G03F7/20
  • 申请日期:
    2018-11-07
  • 申请人:
    ASML荷兰有限公司
著录项信息
专利名称多孔石墨表膜
申请号CN201880075083.7申请日期2018-11-07
法律状态公开申报国家中国
公开/公告日2020-07-03公开/公告号CN111373328A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G03F7/20IPC分类号G;0;3;F;7;/;2;0查看分类表>
申请人ASML荷兰有限公司申请人地址
荷兰维德霍温 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人ASML荷兰有限公司当前权利人ASML荷兰有限公司
发明人马克西姆·A·纳萨勒维奇;E·库尔干诺娃;A·W·诺滕博姆;玛丽亚·皮特;彼得-詹·范兹沃勒;D·F·弗莱斯
代理机构中科专利商标代理有限责任公司代理人闫红
摘要
一种制造用于光刻设备的表膜的方法,所述方法包括在三维模板中生长所述表膜,以及根据该方法制造的表膜。还公开了根据所述方法制造的表膜在EUV光刻设备中的用途以及三维模板在制造表膜中的用途。

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