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柱状电容器阵列结构的制备方法及半导体结构

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN202110973561.X
  • IPC分类号:H01L21/8242;H01L27/108
  • 申请日期:
    2021-08-24
  • 申请人:
    长鑫存储技术有限公司
著录项信息
专利名称柱状电容器阵列结构的制备方法及半导体结构
申请号CN202110973561.X申请日期2021-08-24
法律状态公开申报国家暂无
公开/公告日2021-11-26公开/公告号CN113707614A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L21/8242
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IPC结构图谱:
IPC分类号H;0;1;L;2;1;/;8;2;4;2;;;H;0;1;L;2;7;/;1;0;8查看分类表>
申请人长鑫存储技术有限公司申请人地址
安徽省合肥市经济技术开发区空港工业园兴业大道388号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人长鑫存储技术有限公司当前权利人长鑫存储技术有限公司
发明人宛强;夏军;占康澍;李森;刘涛;徐朋辉
代理机构上海盈盛知识产权代理事务所(普通合伙)代理人孙佳胤;高翠花
摘要
本发明提供一种柱状电容器阵列结构的制备方法及半导体结构,属于半导体制造技术领域,本发明柱状电容器阵列结构的制备方法在去除掩膜层之前先将外围区域的掩膜层与阵列区域的掩膜层的厚度调整为相同,从而避免由于掩膜层厚度不同而导致的顶部支撑层的损失。另外,本发明制备方法还利用补充支撑层增加顶部支撑层的厚度,以增大顶部支撑层的支撑力度,从而进一步避免由于顶部支撑层支撑力度不够而导致柱状电容倾斜的情况发生。

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