玻璃陶瓷靶材及其制备方法

发明专利有效专利

申请号：
CN201410322534.6
IPC分类号：C23C14/35;C23C14/08
申请日期：
2014-07-08
申请人：
中国人民解放军国防科学技术大学

基础信息

权利要求

说明书

PDF全文

法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	玻璃陶瓷靶材及其制备方法
申请号	CN201410322534.6	申请日期	2014-07-08
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日	2014-11-19	公开/公告号	CN104152853A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	C23C14/35 ? IPC结构图谱： C 化学；冶金 C2 冶金 C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕 C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆（挤压法制造包覆金属的产品入B21C23/22；通过将预先存在的薄层连接到制品上的方法用金属进行镀覆处理的见各有关位置，例如B21D39/00，B23K；玻璃的金属化入C03C；砂浆、混凝土、人造石、陶瓷或天然石的金属化入C04B41/00；金属的搪瓷或向金属上镀覆玻璃体层入c23D；用电解法或电泳法处理金属表面或镀覆金属入C25D；单晶膜生长入C30B；纺织品的金属化入D06M11/83；用局部金属化法装饰纺织品入D06Q1/04）〔4〕 C23C14/00 通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆〔4，2006.01〕 C23C14/22 以镀覆工艺为特征的〔4〕 C23C14/34 溅射〔4〕 C23C14/35 利用磁场的，例如磁控溅射〔5〕	IPC分类号	C;2;3;C;1;4;/;3;5;;;C;2;3;C;1;4;/;0;8查看分类表>
申请人	中国人民解放军国防科学技术大学	申请人地址	湖南省长沙市开福区德雅路109号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	中国人民解放军国防科学技术大学	当前权利人	中国人民解放军国防科学技术大学
发明人	李俊生;程海峰;周永江;郑文伟;童思超
代理机构	上海金盛协力知识产权代理有限公司	代理人	段迎春

摘要

本发明公开了一种玻璃陶瓷靶材，包括合金背板和玻璃陶瓷本体，合金背板为耐高温镍基合金，玻璃陶瓷本体是通过丝网印刷工艺转移玻璃陶瓷粉体在前述合金背板上后烧结制备而成，合金背板与所述玻璃陶瓷本体通过固相扩散方式结合；其制备方法包括：将各原材料粉体混合，高温熔炼后进行淬冷，再通过球磨，烘干、过筛后得到玻璃粉；取有机载体和玻璃粉混合，球磨后得到玻璃浆料；在一合金背板上通过丝网印刷上述玻璃浆料，烘干后进行烧结处理；重复上述步骤直至得到所需厚度的玻璃陶瓷本体，将表面进行抛磨处理，得到玻璃陶瓷靶材。本发明能综合利用合金背板的导电性和导热性，降低靶材电荷积累和降温过程中靶材开裂失效的风险。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有引用任何外部专利数据！

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有被任何外部专利所引用！

我浏览过的专利

专利服务由北京酷爱智慧知识产权代理公司提供