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阵列基板的制造方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201110415306.X
  • IPC分类号:H01L21/77;G02F1/1362;G02F1/1368
  • 申请日期:
    2011-12-13
  • 申请人:
    京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司
著录项信息
专利名称阵列基板的制造方法
申请号CN201110415306.X申请日期2011-12-13
法律状态授权申报国家暂无
公开/公告日2012-08-08公开/公告号CN102629588A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L21/77IPC分类号H;0;1;L;2;1;/;7;7;;;G;0;2;F;1;/;1;3;6;2;;;G;0;2;F;1;/;1;3;6;8查看分类表>
申请人京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司申请人地址
北京市朝阳区酒仙桥路10号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人京东方科技集团股份有限公司,成都京东方光电科技有限公司当前权利人京东方科技集团股份有限公司,成都京东方光电科技有限公司
发明人李凡;黄小妹
代理机构北京中博世达专利商标代理有限公司代理人申健
摘要
本发明公开了一种阵列基板的制造方法,涉及液晶显示技术领域。解决了现有的阵列基板的制造方法仍存在较大的降低成本空间的问题。本发明实施例提供的阵列基板的制造方法,包括:形成包括栅极和栅线的图形;通过一次构图工艺形成包括栅绝缘层、有源层、源电极、漏电极、钝化层以及钝化层过孔的图形;形成包括像素电极的图形。整个阵列基板的制造过程中仅使用了三个掩膜版,相比于现有的4Mask技术进一步减低了阵列基板的制造成本。

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