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一种基于CVD钻石的量子中继设备及其制备方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN202010252430.8
  • IPC分类号:G01J1/42;F16M11/04;G06K17/00
  • 申请日期:
    2020-04-01
  • 申请人:
    湖州中芯半导体科技有限公司
著录项信息
专利名称一种基于CVD钻石的量子中继设备及其制备方法
申请号CN202010252430.8申请日期2020-04-01
法律状态实质审查申报国家中国
公开/公告日2020-07-17公开/公告号CN111426378A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G01J1/42IPC分类号G;0;1;J;1;/;4;2;;;F;1;6;M;1;1;/;0;4;;;G;0;6;K;1;7;/;0;0查看分类表>
申请人湖州中芯半导体科技有限公司申请人地址
浙江省湖州市吴兴区高新区中横港路33号2号厂房5号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人湖州中芯半导体科技有限公司当前权利人湖州中芯半导体科技有限公司
发明人赵芬霞;刘宏明
代理机构北京盛凡智荣知识产权代理有限公司代理人邓凌云
摘要
本发明涉及量子计算技术领域,且公开了一种基于CVD钻石的量子中继设备及其制备方法,包括底座,所述底座的上端固定连接有支撑杆,所述支撑杆的另一端安装有安装座,所述安装座的上端安装有光电探测器,所述底座的上端开设有活动槽,所述活动槽内滑动连接有活动块,所述活动块内设有螺纹孔,所述活动槽相向的槽壁上通过轴承转动连接有螺纹杆,所述活动块螺纹连接在螺纹杆上,所述螺纹杆远离支撑杆的一端穿过轴承并向外延伸,所述活动块的上端穿过活动槽槽口并向外延伸,且固定连接有连接板。该基于CVD钻石的量子中继设备及其制备方法,可以快速精确的调节单色激光器与CVD钻石的间距,易于单色激光器安装固定到最佳的位置处。

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