加载中...
首页专利查询专利详情

*来源于国家知识产权局数据,仅供参考,实际以国家知识产权局展示为准

强化玻璃基板的制造方法和强化玻璃基板

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN201280040456.X
  • IPC分类号:C03C21/00;C03B33/02;C03C3/083;C03C15/00;G09F9/00
  • 申请日期:
    2012-08-16
  • 申请人:
    HOYA株式会社
著录项信息
专利名称强化玻璃基板的制造方法和强化玻璃基板
申请号CN201280040456.X申请日期2012-08-16
法律状态撤回申报国家暂无
公开/公告日2014-06-18公开/公告号CN103874668A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号C03C21/00IPC分类号C;0;3;C;2;1;/;0;0;;;C;0;3;B;3;3;/;0;2;;;C;0;3;C;3;/;0;8;3;;;C;0;3;C;1;5;/;0;0;;;G;0;9;F;9;/;0;0查看分类表>
申请人HOYA株式会社申请人地址
日本东京都 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人HOYA株式会社当前权利人HOYA株式会社
发明人桥本和明
代理机构北京集佳知识产权代理有限公司代理人金世煜;苗堃
摘要
即使利用蚀刻处理来切割化学强化后的板状玻璃材而使其小片化,也不发生破损、断裂。一种玻璃基板的制造方法,包括:化学强化工序,利用离子交换处理对板状玻璃材进行化学强化;和形状加工工序,利用蚀刻处理来切割化学强化后的上述板状玻璃材,在上述化学强化工序中,将上述板状玻璃材的板厚设为t[μm],将上述板状玻璃材中的上述压缩应力层的厚度设为d[μm],将上述压缩应力层的最大压缩应力值设为F[MPa],将上述压缩应力层的压缩应力层的压缩应力累计值设为X[MPa·μm],将上述层的厚度设为t2[μm],将上述拉伸应力层的平均拉伸应力值设为Tave[MPa],X=F×d、t2=t-2d且Tave=X/t2的关系成立时,以满足如下条件的方式进行上述离子交换处理:7≤Tave<50[MPa]。

我浏览过的专利

专利服务由北京酷爱智慧知识产权代理公司提供