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钼溅射靶材热等静压生产方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201310040795.4
  • IPC分类号:B22F3/04;B22F3/03;C23C14/34
  • 申请日期:
    2013-02-01
  • 申请人:
    基迈克材料科技(苏州)有限公司
著录项信息
专利名称钼溅射靶材热等静压生产方法
申请号CN201310040795.4申请日期2013-02-01
法律状态暂无申报国家中国
公开/公告日2013-05-01公开/公告号CN103071793A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号B22F3/04IPC分类号B;2;2;F;3;/;0;4;;;B;2;2;F;3;/;0;3;;;C;2;3;C;1;4;/;3;4查看分类表>
申请人基迈克材料科技(苏州)有限公司申请人地址
江苏省苏州市吴江汾湖经济开发区汾杨路东侧 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人基迈克材料科技(苏州)有限公司当前权利人基迈克材料科技(苏州)有限公司
发明人庄志杰;贾泽夏
代理机构上海宏威知识产权代理有限公司代理人郭春远
摘要
钼溅射靶材热等静压生产方法,钼材经过适当的1300℃,100~110MPa热等静压处理,在致密度提高的基础上,可获得细小均匀的晶粒度为7级晶粒组织,其抗拉强度为530MPa,延伸率达25%,强度和韧性均得到提高。在高温高压的共同作用下,被加工件的各向均衡受压,靶材的致密度高、均匀性好、性能优异,同时具有生产周期短、工序少、能耗低、材料损耗小等特点。

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