基于保持架偏心转摆式双平面研磨的圆柱形零件外圆加工装置

发明专利无效专利

申请号：
CN201310321089.7
IPC分类号：B24B37/32
申请日期：
2013-07-26
申请人：
浙江工业大学

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著录项信息

专利名称	基于保持架偏心转摆式双平面研磨的圆柱形零件外圆加工装置
申请号	CN201310321089.7	申请日期	2013-07-26
法律状态	撤回	申报国家	中国
公开/公告日	2014-01-22	公开/公告号	CN103522168A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	B24B37/32 ? IPC结构图谱： B 作业；运输 B2 成型 B24 磨削；抛光 B24B 用于磨削或抛光的机床、装置或工艺（用电蚀入B23H；磨料或有关喷射入B24C；电解浸蚀或电解抛光入C25F 3/00）；磨具磨损表面的修理或调节；磨削，抛光剂或研磨剂的进给 B24B37/00 研磨机床或装置；附件（B24B 3/00优先） B24B37/27 工件载体〔2012.01〕 B24B37/30 用于平面的单侧研磨〔2012.01〕 B24B37/32 保持环〔2012.01〕	IPC分类号	B;2;4;B;3;7;/;3;2查看分类表>
申请人	浙江工业大学	申请人地址	浙江省杭州市下城区朝晖六区潮王路18号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	浙江工业大学	当前权利人	浙江工业大学
发明人	袁巨龙;姚蔚峰;钟美鹏;吕冰海;邓乾发;周文华
代理机构	杭州斯可睿专利事务所有限公司	代理人	王利强

摘要

一种基于保持架偏心转摆式双平面研磨的圆柱形零件外圆加工装置，包括上研磨盘、保持架和下研磨盘，所述上研磨盘位于下研磨盘上方，所述保持架位于上研磨盘与下研磨盘之间，上研磨盘的转轴和下研磨盘的转轴呈同轴设置，所述保持架的轴心线和上、下研磨盘的转轴存在确定偏距，所述保持架与保持架驱动曲轴相连。本发明提供一种加工精度高、加工一致性良好的基于保持架偏心转摆式双平面研磨的圆柱形零件外圆加工装置。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
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