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线内处理系统

实用新型专利有效专利
  • 申请号:
    CN201190000982.4
  • IPC分类号:H01L21/67;H01L31/18
  • 申请日期:
    2011-10-17
  • 申请人:
    应用材料公司
著录项信息
专利名称线内处理系统
申请号CN201190000982.4申请日期2011-10-17
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日公开/公告号
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L21/67IPC分类号H;0;1;L;2;1;/;6;7;;;H;0;1;L;3;1;/;1;8查看分类表>
申请人应用材料公司申请人地址
美国加利福尼亚州 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人应用材料公司当前权利人应用材料公司
发明人M·P·斯图尔特
代理机构上海专利商标事务所有限公司代理人陆嘉
摘要
本实用新型的实施例涉及一种线内处理系统。向硅基板涂覆掺杂剂材料。之后使用激光来驱使来自掺杂剂材料的掺杂剂原子深入基板,从而形成高度掺杂的区域。随后对基板进行热处理,以在基板的剩余场区形成轻掺杂发射极区与浅p-n结。之后将导电触点沉积在高掺杂区上。所得场区具有高阻抗发射极区,所述高阻抗发射极区可吸收最少的光,使得有增量的光到达p-n结以转化成为电流。所得太阳能电池的高掺杂区具有非常低的电阻,以在发射极区与导电触点之间提供高传导路径。

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