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半导体激光元件的制造方法

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN200610095832.1
  • IPC分类号:H01S5/22;H01S5/323;H01S5/343;H01S5/00
  • 申请日期:
    2001-04-25
  • 申请人:
    日亚化学工业株式会社
著录项信息
专利名称半导体激光元件的制造方法
申请号CN200610095832.1申请日期2001-04-25
法律状态权利终止申报国家中国
公开/公告日2006-12-13公开/公告号CN1877934
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01S5/22IPC分类号H;0;1;S;5;/;2;2;;;H;0;1;S;5;/;3;2;3;;;H;0;1;S;5;/;3;4;3;;;H;0;1;S;5;/;0;0查看分类表>
申请人日亚化学工业株式会社申请人地址
日本德岛县 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人日亚化学工业株式会社当前权利人日亚化学工业株式会社
发明人松村拓明
代理机构中科专利商标代理有限责任公司代理人汪惠民
摘要
本发明提供一种半导体激光元件的制造方法,其特征在于,包括:在n型GaN基板上依次叠层至少由氮化物半导体构成的第一导电型层、活性层和第二导电型层的工序;在由所述工序叠层的晶片上,将规定波导路区域的长度的分隔槽形成为槽的底面比活性层更深的工序;在所述第二导电型层上设置条形凸部,形成由有效折射率关住光的第二波导路的工序;在所述条形凸部下设置包含活性层的条形凸部,形成由完全折射率关住光的第一波导路的工序;将所述晶片以分裂面成为谐振器面的方式在所述分隔槽分裂的分裂工序。

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