优化至少两个光学元件成像特性的方法以及照相平版制造法

发明专利无效专利

申请号：
CN02825556.9
IPC分类号：G03F7/20;G02B5/30;G02B1/02;G02B1/08
申请日期：
2002-10-02
申请人：
卡尔蔡司SMT股份有限公司

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专利名称	优化至少两个光学元件成像特性的方法以及照相平版制造法
申请号	CN02825556.9	申请日期	2002-10-02
法律状态	权利终止	申报国家	中国
公开/公告日	2005-04-13	公开/公告号	CN1606715
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G03F7/20 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕 G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备（照相排版装置入B41B；为摄影用的感光材料或处理入G03C；电记录、感光层或处理入G03G） G03F7/00 图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备（用于特殊工艺的光致抗蚀剂结构见相关的位置，例如，B44C，H01L，例如，H01L 21/00，H05K）〔3，5〕 G03F7/20 曝光及其设备（复制用照相印制设备入G03B 27/00）〔4〕	IPC分类号	G;0;3;F;7;/;2;0;;;G;0;2;B;5;/;3;0;;;G;0;2;B;1;/;0;2;;;G;0;2;B;1;/;0;8查看分类表>
申请人	卡尔蔡司SMT股份有限公司	申请人地址	德国上科亨变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	卡尔蔡司SMT股份有限公司	当前权利人	卡尔蔡司SMT股份有限公司
发明人	B·梅金;T·格鲁纳;A·科尔
代理机构	北京市中咨律师事务所	代理人	吴鹏;马江立

摘要

在用来优化至少两个光学元件(9、10)的成像特性的方法中，其中为了优化光学成像相互调整光学元件(9、10)的相对位置，执行以下步骤：首先确定对于至少一个光学元件(9、10)的与偏振有关的干扰量。接着由对于至少一个可运动的光学元件所确定的干扰量和其它光学元件的干扰量计算出所述至少一个可运动的光学元件(9)的目标位置。在这个目标位置，所有光学元件(6)的由与偏振有关的和与偏振无关的干扰量合成的总量最小。最后使可运动光学元件(9)运动到目标位置。对与偏振有关的干扰量的考虑保证了成像特性精确的模型化，这是精确优化的前提条件。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
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