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一种非易失性光开关及其制作方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN202011414339.8
  • IPC分类号:G02F1/00;G02F1/01
  • 申请日期:
    2020-12-04
  • 申请人:
    中国科学院上海微系统与信息技术研究所
著录项信息
专利名称一种非易失性光开关及其制作方法
申请号CN202011414339.8申请日期2020-12-04
法律状态实质审查申报国家中国
公开/公告日2021-02-26公开/公告号CN112415784A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G02F1/00IPC分类号G;0;2;F;1;/;0;0;;;G;0;2;F;1;/;0;1查看分类表>
申请人中国科学院上海微系统与信息技术研究所申请人地址
上海市长宁区长宁路865号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人中国科学院上海微系统与信息技术研究所当前权利人中国科学院上海微系统与信息技术研究所
发明人李文霏;曹溪源;武爱民
代理机构上海光华专利事务所(普通合伙)代理人余明伟
摘要
本发明提供一种非易失性光开关及其制作方法,所述非易失性光开关包括:绝缘埋层;单模波导,位于所述绝缘埋层之上;相变材料微盘,位于所述单模波导之上;以及上包层,覆盖所述相变材料微盘和所述单模波导。相对于现有的硅基光开关,本发明的非易失性光开关具有更小的器件尺寸、消光比大且插入损耗低。

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