一种脱模剂的制备方法

发明专利有效专利

申请号：
CN200910190333.4
IPC分类号：C07F7/04;C07F7/18;C08G77/24
申请日期：
2009-09-17
申请人：
深圳超多维光电子有限公司

基础信息

权利要求

说明书

PDF全文

法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	一种脱模剂的制备方法
申请号	CN200910190333.4	申请日期	2009-09-17
法律状态	暂无	申报国家	中国
公开/公告日	2010-03-17	公开/公告号	CN101671354
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	C07F7/04 ? IPC结构图谱： C 化学；冶金 C0 化学 C07 有机化学〔2〕 C07F 含除碳、氢、卤素、氧、氮、硫、硒或碲以外的其他元素的无环，碳环或杂环化合物（含金属的卟啉入C07D 487/22；高分子化合物入C08） C07F7/00 含周期表第4或14族元素的化合物 C07F7/02 硅化合物 C07F7/04 硅酸的酯	IPC分类号	C;0;7;F;7;/;0;4;;;C;0;7;F;7;/;1;8;;;C;0;8;G;7;7;/;2;4查看分类表>
申请人	深圳超多维光电子有限公司	申请人地址	广东省深圳市前海深港合作区前湾一路1号A栋201室（入驻深圳市前海商务秘书有限公司）变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	深圳超多维科技有限公司	当前权利人	深圳超多维科技有限公司
发明人	魏伟
代理机构	暂无	代理人	暂无

摘要

本发明公开了一种脱膜剂的制备方法，采用硅烷偶联剂单体经水解缩合反应进行制备。所述硅烷偶联剂单体可以为4-甲基-(全氟己基乙基)丙基三甲氧基硅烷，还可以为正硅酸乙酯，将经过本发明方法制备的脱模剂改性过的模具用在微透镜阵列光栅的制作上，制得的光栅表面形貌好，不会出现发毛、橘皮、水纹、透光不均匀等，能够满足生产高质量光栅的要求。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有引用任何外部专利数据！

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有被任何外部专利所引用！

我浏览过的专利

专利服务由北京酷爱智慧知识产权代理公司提供