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热等静压生产平板显示器用钼合金溅射靶材的方法

发明专利有效专利

申请号：
CN201110276564.4
IPC分类号：C23C14/34;C23C14/14;B22F3/12
申请日期：
2011-09-19
申请人：
基迈克材料科技（苏州）有限公司

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法律信息

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著录项信息

专利名称	热等静压生产平板显示器用钼合金溅射靶材的方法
申请号	CN201110276564.4	申请日期	2011-09-19
法律状态	暂无	申报国家	中国
公开/公告日	2012-01-18	公开/公告号	CN102321871A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	C23C14/34 ? IPC结构图谱： C 化学；冶金 C2 冶金 C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕 C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆（挤压法制造包覆金属的产品入B21C23/22；通过将预先存在的薄层连接到制品上的方法用金属进行镀覆处理的见各有关位置，例如B21D39/00，B23K；玻璃的金属化入C03C；砂浆、混凝土、人造石、陶瓷或天然石的金属化入C04B41/00；金属的搪瓷或向金属上镀覆玻璃体层入c23D；用电解法或电泳法处理金属表面或镀覆金属入C25D；单晶膜生长入C30B；纺织品的金属化入D06M11/83；用局部金属化法装饰纺织品入D06Q1/04）〔4〕 C23C14/00 通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆〔4，2006.01〕 C23C14/22 以镀覆工艺为特征的〔4〕 C23C14/34 溅射〔4〕	IPC分类号	C;2;3;C;1;4;/;3;4;;;C;2;3;C;1;4;/;1;4;;;B;2;2;F;3;/;1;2查看分类表>
申请人	基迈克材料科技（苏州）有限公司	申请人地址	江苏省苏州市吴江汾湖经济开发区汾杨路东侧变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	基迈克材料科技（苏州）有限公司	当前权利人	基迈克材料科技（苏州）有限公司
发明人	庄志杰
代理机构	上海宏威知识产权代理有限公司	代理人	郭春远

摘要

热等静压生产平板显示器用钼合金溅射靶材的方法，靶材坯体经过液压、冷等静压和热等静压连续复合压固处理，在致密度提高的基础上，可获得细小均匀的晶粒度并且强度和韧性均得到提高。在高温高压的共同作用下，被加工件的各向均衡受压，靶材的致密度高、均匀性好、性能优异，同时具有生产周期短、工序少、能耗低、后期加工材料损耗小等特点。

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