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薄膜晶体管及其制作方法、显示器件

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201510502492.9
  • IPC分类号:H01L29/786
  • 申请日期:
    2015-08-14
  • 申请人:
    京东方科技集团股份有限公司
著录项信息
专利名称薄膜晶体管及其制作方法、显示器件
申请号CN201510502492.9申请日期2015-08-14
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2015-12-02公开/公告号CN105118864A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L29/786
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IPC结构图谱:
IPC分类号H;0;1;L;2;9;/;7;8;6查看分类表>
申请人京东方科技集团股份有限公司申请人地址
北京市朝阳区酒仙桥路10号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人京东方科技集团股份有限公司当前权利人京东方科技集团股份有限公司
发明人王久石;崔大林
代理机构北京银龙知识产权代理有限公司代理人许静;黄灿
摘要
本发明涉及显示技术领域,公开了一种薄膜晶体管及其制作方法、显示器件。所述薄膜晶体管包括半导体层和刻蚀阻挡层,刻蚀阻挡层仅覆盖半导体层的沟道区域,并通过一次构图工艺形成所述半导体层和刻蚀阻挡层,不需要单独增加制作刻蚀阻挡层的工艺,简化了薄膜晶体管的制作工艺。当源电极和漏电极搭接在半导体层上时,在形成源电极和漏电极的刻蚀工艺中,所述刻蚀阻挡层能够保护位于其下方的半导体层不被刻蚀,保证薄膜晶体管的半导体特性,提高薄膜晶体管显示器件的显示质量。

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