一种薄膜电晕处理表面的检测方法及系统

发明专利有效专利

申请号：
CN202111010396.4
IPC分类号：G01N27/61
申请日期：
2021-08-31
申请人：
江苏双星彩塑新材料股份有限公司

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著录项信息

专利名称	一种薄膜电晕处理表面的检测方法及系统
申请号	CN202111010396.4	申请日期	2021-08-31
法律状态	公开	申报国家	中国
公开/公告日	2021-11-23	公开/公告号	CN113686944A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G01N27/61 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G01 测量；测试 G01N （除免疫测定法以外包括酶或微生物的测量或试验入C12M，C12Q） G01N27/00 用电、电化学或磁的方法测试或分析材料（G01N 3/00至G01N 25/00优先；电或磁变量的测量或试验，材料的电磁性能的测试或试验入G01R） G01N27/60 通过测试静电变量 G01N27/61 测试缺陷的存在〔3〕	IPC分类号	G;0;1;N;2;7;/;6;1查看分类表>
申请人	江苏双星彩塑新材料股份有限公司	申请人地址	江苏省宿迁市彩塑工业园区井头街1号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	江苏双星彩塑新材料股份有限公司	当前权利人	江苏双星彩塑新材料股份有限公司
发明人	吴培服;王琪;池卫
代理机构	北京尚德技研知识产权代理事务所（普通合伙）	代理人	严勇刚;段泽贤

摘要

本申请公开了一种薄膜电晕处理表面的检测方法，至少包括如下步骤：首先向薄膜的电晕处理表面释放粉末，然后根据附着在薄膜的电晕处理表面上的粉末分布图像，判断薄膜的电晕处理表面的均匀性。另外，本申请还公开了一种薄膜电晕处理表面的检测系统，至少包括一个向薄膜的电晕处理表面释放粉末的粉末释放装置以及设置在粉末释放装置的下方的下料筐。本申请通过向薄膜表面释放粉末，可以在整个薄膜表面形成宏观的粉末分布图像，可以直观反应整体残留静电场，进而可以判断薄膜的电晕处理表面是否均匀。本申请的方案简单易行便于操作，可以在极短时间内判断大面积的薄膜电晕处理表面的微观结构是否均匀。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有引用任何外部专利数据！

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该专利没有被任何外部专利所引用！

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