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一种用于半导体电流密度反演的磁场测试装置

实用新型专利有效专利
  • 申请号:
    CN202120037788.9
  • IPC分类号:G01R33/12
  • 申请日期:
    2021-01-07
  • 申请人:
    清华大学
著录项信息
专利名称一种用于半导体电流密度反演的磁场测试装置
申请号CN202120037788.9申请日期2021-01-07
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日公开/公告号
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G01R33/12IPC分类号G;0;1;R;3;3;/;1;2查看分类表>
申请人清华大学申请人地址
北京市海淀区清华园 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人清华大学当前权利人清华大学
发明人曾嵘;周文鹏;余占清;赵彪;吴锦鹏;陈政宇
代理机构北京知联天下知识产权代理事务所(普通合伙)代理人张迎新;史光伟
摘要
本实用新型提供一种用于半导体电流密度反演的磁场测试装置,包括磁场测试组件和压接组件;所述压接组件压接被测半导体芯片;所述磁场测试组件对压接的被测半导体芯片进行磁场强度测定,从而解决现有大功率压接式半导体器件通常为圆饼状或者方形封装的密封结构,受限于这种密封结构,难以探测到内部的电流密度分布情况的问题。

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