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半导体制造中的成品管理方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN200910225439.3
  • IPC分类号:G06F17/50;G06Q10/06
  • 申请日期:
    2009-12-10
  • 申请人:
    台湾积体电路制造股份有限公司
著录项信息
专利名称半导体制造中的成品管理方法
申请号CN200910225439.3申请日期2009-12-10
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2010-08-18公开/公告号CN101807266A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G06F17/50IPC分类号G;0;6;F;1;7;/;5;0;;;G;0;6;Q;1;0;/;0;6查看分类表>
申请人台湾积体电路制造股份有限公司申请人地址
中国台湾新竹 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人台湾积体电路制造股份有限公司当前权利人台湾积体电路制造股份有限公司
发明人吕一云;杨稳儒;吴仁贵;申云勇;张焕永
代理机构北京德恒律师事务所代理人梁永
摘要
本发明提供一种半导体制造过程中的成品管理方法和其设备。所述方法包括如下步骤。获得并采集晶片的某一层的瑕疵数据,其中所述瑕疵数据包括该层的瑕疵的尺寸和位置。获得关于该层的布局图。根据所述瑕疵数据和布局图,通过多个处理装置并行进行该层的临界区域分析,以估计该层处于临界区域中的瑕疵位置。

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