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一种半导体材料深能级瞬态谱测试系统及方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN202010735771.0
  • IPC分类号:G01R31/26;G01R27/26;G01R19/00
  • 申请日期:
    2020-07-28
  • 申请人:
    哈尔滨工业大学
著录项信息
专利名称一种半导体材料深能级瞬态谱测试系统及方法
申请号CN202010735771.0申请日期2020-07-28
法律状态实质审查申报国家中国
公开/公告日2020-10-13公开/公告号CN111766499A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G01R31/26IPC分类号G;0;1;R;3;1;/;2;6;;;G;0;1;R;2;7;/;2;6;;;G;0;1;R;1;9;/;0;0查看分类表>
申请人哈尔滨工业大学申请人地址
黑龙江省哈尔滨市南岗区西大直街92号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人哈尔滨工业大学当前权利人哈尔滨工业大学
发明人李兴冀;杨剑群;吕钢
代理机构北京隆源天恒知识产权代理事务所(普通合伙)代理人涂杰
摘要
本发明提供了一种半导体材料深能级瞬态谱测试系统及方法,涉及测试技术领域,包括:向被测半导体施加触发信号;获取被测半导体的检测电压和检测电流;根据检测电压和检测电流确定检测电容量;根据检测电流确定瞬态电流量;对检测电容量和瞬态电流量进行数据分析和数据同步,确定同时结合电容变化和电流变化的深能级瞬态谱。本发明向被测半导体施加触发信号,在测试基于电容变化的深能级瞬态谱的同时,也测试基于电流变化的深能级瞬态谱,不仅提高了测试速度,还可通过同时结合电容变化和电流变化的深能级瞬态谱进行数据对比。除此之外,通过同时获取电压、电流多方面的信息,使测试结果更为可靠准确。

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