一种太阳能级直拉硅单晶埚底料清洗方法

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专利名称	一种太阳能级直拉硅单晶埚底料清洗方法
申请号	CN201010615251.2	申请日期	2010-12-30
法律状态	权利终止	申报国家	中国
公开/公告日	2011-04-20	公开/公告号	CN102020426A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	C03C15/00 ? IPC结构图谱： C 化学；冶金 C0 化学 C03 玻璃；矿棉或渣棉 C03C 玻璃、釉或搪瓷釉的化学成分；玻璃的表面处理；由玻璃、矿物或矿渣制成的纤维或细丝的表面处理；玻璃与玻璃或与其他材料的接合 C03C15/00 纤维和丝之外的蚀刻法玻璃表面处理	IPC分类号	C;0;3;C;1;5;/;0;0查看分类表>
申请人	上海九晶电子材料股份有限公司	申请人地址	四川省雅安市工业园区变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	九晶（雅安）电子材料有限公司,上海九晶电子材料股份有限公司	当前权利人	九晶（雅安）电子材料有限公司,上海九晶电子材料股份有限公司
发明人	汪贺杏
代理机构	上海天翔知识产权代理有限公司	代理人	陈逸良

摘要

本发明公开了一种太阳能级直拉硅单晶埚底料清洗方法,通过氢氟酸浸泡去除石英和表面附着的少量金属离子；再通过混酸清洗，去除硅料表面残留的氟硅酸和氟硅酸盐；然后经纯水浸泡、超声波冲洗掉表面的酸液残留。经本发明处理后的埚底料完全可以达到太阳能级硅单晶原料的要求。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
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