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一种化学机械抛光液及其应用

发明专利无效专利

申请号：
CN201210540804.1
IPC分类号：C23F3/06
申请日期：
2012-12-13
申请人：
安集微电子（上海）有限公司

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法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	一种化学机械抛光液及其应用
申请号	CN201210540804.1	申请日期	2012-12-13
法律状态	撤回	申报国家	中国
公开/公告日	2014-06-18	公开/公告号	CN103866327A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	C23F3/06 ? IPC结构图谱： C 化学；冶金 C2 冶金 C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕 C23F 非机械方法去除表面上的金属材料（电浸蚀法加工金属入B23H；火焰法清除表层金属材料入B23K 7/00；用激光束加工金属入B23K 26/00）；金属材料的缓蚀；一般防积垢（电解或电泳法处理金属表面或金属覆层入C25D，C25F）；至少一种在C23大类中所列的方法及至少一种在C21D、C22F小类或者C25大类中所列的方法之多步法金属材料表面处理〔4〕 C23F3/00 金属的化学法光亮处理〔2〕 C23F3/04 重金属 C23F3/06 用酸性溶液的〔4〕	IPC分类号	C;2;3;F;3;/;0;6查看分类表>
申请人	安集微电子（上海）有限公司	申请人地址	上海市浦东新区张江高科技园区龙东大道3000号5号楼602室变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	安集微电子（上海）有限公司	当前权利人	安集微电子（上海）有限公司
发明人	尹先升;王雨春
代理机构	上海翰鸿律师事务所	代理人	李佳铭

摘要

本发明公开了一种化学机械抛光液，其包括研磨颗粒、氧化剂、络合剂、腐蚀抑制剂和载体。该抛光液可达到较高的铜表面抛光去除速率，同时避免或降低抛光后铜表面抛光缺陷的发生。

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