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保持器、光刻装置、平台装置以及制造物品的方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201410118166.3
  • IPC分类号:G03F7/20
  • 申请日期:
    2014-03-27
  • 申请人:
    佳能株式会社
著录项信息
专利名称保持器、光刻装置、平台装置以及制造物品的方法
申请号CN201410118166.3申请日期2014-03-27
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2014-10-15公开/公告号CN104102093A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G03F7/20IPC分类号G;0;3;F;7;/;2;0查看分类表>
申请人佳能株式会社申请人地址
日本东京 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人佳能株式会社当前权利人佳能株式会社
发明人神谷重雄
代理机构中国国际贸易促进委员会专利商标事务所代理人柳爱国
摘要
本发明提供了一种用于保持基质的保持器,该保持器包括:基部,该基部将由台板接收;该基部包括:第一表面,该第一表面布置成接收要由保持器保持的基质;以第二表面,该第二表面与第一表面相反地布置;第一支撑件,该第一支撑件提供于第二表面上、布置成包围形成于基部中的通孔并且构造成接触台板;第二支撑件,该第二支撑件提供于第二表面上并且布置成包围第一支撑件并接触台板;以及多个第一销,这些第一销提供于第二表面的、在第二支撑件与基部的外边缘之间的区域中,并且布置成接触台板。本发明还提供了一种光刻装置、一种平台装置和一种制造物品的方法。

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