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制造长的微透镜阵列的方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201110264583.5
  • IPC分类号:G03F7/20
  • 申请日期:
    2007-02-16
  • 申请人:
    卡尔蔡司SMT有限责任公司
著录项信息
专利名称制造长的微透镜阵列的方法
申请号CN201110264583.5申请日期2007-02-16
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2012-01-11公开/公告号CN102314096A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G03F7/20IPC分类号G;0;3;F;7;/;2;0查看分类表>
申请人卡尔蔡司SMT有限责任公司申请人地址
德国上科亨 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人卡尔蔡司SMT有限责任公司当前权利人卡尔蔡司SMT有限责任公司
发明人O.伍尔夫;H.西克曼;E.卡尔切布莱纳;S.雷南;J.旺格勒;A.布雷桑;M.格哈德;N.哈弗坎普;A.舍尔茨;R.沙恩韦伯尔;M.莱;S.布尔卡特
代理机构北京市柳沈律师事务所代理人邱军
摘要
一种制造用于微光刻投影曝光设备中的照射系统的长的微透镜阵列的方法,所述方法包括下述步骤:a)提供衬底(30);b)提供包括切割刃(24)的切割工具(22);c)在快速切割工艺中相对于所述衬底(30)重复移动所述切割工具(22),从而使得所述切割刃能够切割入所述衬底(30);d)在步骤c)中沿着平行于所述微透镜的纵向轴的纵向方向(X)移动所述衬底(30);e)至少基本垂直于所述纵向方向(X)移动所述衬底(30);f)重复所述步骤c)和d)。

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