一种结构光测量系统高精度校准方法

发明专利有效专利

申请号：
CN202010534367.7
IPC分类号：G01B11/25
申请日期：
2020-06-12
申请人：
珠海博明传感器技术有限公司

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著录项信息

专利名称	一种结构光测量系统高精度校准方法
申请号	CN202010534367.7	申请日期	2020-06-12
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日	2020-09-11	公开/公告号	CN111649696A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G01B11/25 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G01 测量；测试 G01B 长度、厚度或类似线性尺寸的计量；角度的计量；面积的计量；不规则的表面或轮廓的计量 G01B11/00 以采用光学方法为特征的计量设备（G01B 9/00组中包括的各式仪器本身入G01B 9/00）〔2〕 G01B11/24 用于计量轮廓或曲率 G01B11/25 通过在物体上投影一个图形，例如莫尔（moiré）条纹（G01B 11/255优先）〔7〕	IPC分类号	G01B11/25查看分类表>
申请人	珠海博明传感器技术有限公司	申请人地址	广东省珠海市高新区唐家湾镇软件园街（路）1号生产加工中心5#一层8单元B区04-*** 变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	珠海博明传感器技术有限公司	当前权利人	珠海博明传感器技术有限公司
发明人	温捷文
代理机构	北京华际知识产权代理有限公司	代理人	邓大文

摘要

本发明公开了一种结构光测量系统高精度校准方法，本方法通过投影装置向被测量物体表面发出投射光，所述投射光通过光栅条纹投射到被测量物体上，通过线性亮度平衡方法在投影装置发出透射光之前对投射光进行线性亮度平衡；图像采集装置采集被测量物体表面的投射光，形成投射光图像，在形成投射光图像时，对投射光产生的正弦条纹进行补偿，形成理想正弦条纹；对投射光图像进行解调得到被测量物体的三维信息，使用拟合平面替代原基底相位的方法用拟合平面替代原基底平面，实现高精度成像，周期对投影过程中产生的投影条纹均匀性不好、条纹存在初次噪声和基底相位不平问题进行解决，该方法有效地提高了结构光检测精度。

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